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實(shí)現(xiàn)了一系列光功能導(dǎo)向金屬-有機(jī)配位超分子材料的合理化模型設(shè)計(jì)與可控合成，探索了新型傳能與發(fā)光、光調(diào)制、光轉(zhuǎn)換的機(jī)理與機(jī)制，建立了獨(dú)特的光學(xué)應(yīng)用器件模型。如利用配位鍵動(dòng)態(tài)活性的后合成剝離策略，可逆轉(zhuǎn)換配位材料空間維度，獲得了具有層間/層內(nèi)熒光調(diào)控開(kāi)關(guān)特性的超薄2D配位發(fā)光材料 利用ESIPT多能級(jí)配體激發(fā)態(tài)過(guò)程，構(gòu)筑了超快速專(zhuān)一性水分子光響應(yīng)配合物薄膜器件，以及用于F離子、溫度、溶劑等的熒光探針材料 利用異質(zhì)同晶配位特性和區(qū)域控制各向異性外延技術(shù)，獲得具有異質(zhì)結(jié)超晶格的多稀土MOF單晶，實(shí)現(xiàn)多層次間隔色域可調(diào)發(fā)光，建立了光譜—空間編碼結(jié)合的單晶光學(xué)微器件、雙通道高等級(jí)編碼配合物材料、單金屬單相/多金屬單相配合物白光與混光材料

光學(xué)超構(gòu)材料（Metamaterials）的快速發(fā)展為人類(lèi)提供了在亞波長(zhǎng)尺度下調(diào)控光的傳播的豐富手段。很多新奇的光物理現(xiàn)象，例如負(fù)折射、超分辨透鏡和隱身斗篷等都可以通過(guò)設(shè)計(jì)功能基元的有效介電常數(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。在光波段，三維納米加工的困難和金屬結(jié)構(gòu)的光損耗不利于超構(gòu)材料的廣泛應(yīng)用。自二維超構(gòu)表面（Metasurface）概念提出以來(lái)，超構(gòu)表面在降低三維超構(gòu)材料加工難度、提高光學(xué)效率方面，特別是控制光的功能基元的幾何位相等方面取得了眾多突破性進(jìn)展。近來(lái)，超構(gòu)表面在高效率全息成像、超薄光學(xué)波片、高數(shù)值孔徑的平面透鏡等領(lǐng)域已經(jīng)表現(xiàn)出極高的應(yīng)用潛力。超構(gòu)表面的研究進(jìn)展極大豐富了利用超構(gòu)功能基元實(shí)現(xiàn)對(duì)電磁場(chǎng) (可見(jiàn)光、近紅外光，太赫茲、微波等波段) 進(jìn)行調(diào)控的手段，為設(shè)計(jì)新型光學(xué)元件提供了新技術(shù)。 當(dāng)前，超構(gòu)表面的研究主要集中在線(xiàn)性光學(xué)的范疇。但毫無(wú)疑問(wèn)，非線(xiàn)性光學(xué)響應(yīng)例如倍頻、三倍頻、光致折射率變化等過(guò)程，將為光學(xué)超構(gòu)表面的功能基元賦予新的可調(diào)控自由度。此綜述文章從非線(xiàn)性光學(xué)超構(gòu)表面的材料選擇、對(duì)稱(chēng)性，非線(xiàn)性手性光學(xué)超構(gòu)表面，非線(xiàn)性光學(xué)相位調(diào)控，非線(xiàn)性光光束調(diào)控，光開(kāi)關(guān)與調(diào)制五個(gè)方面詳細(xì)介紹了非線(xiàn)性光學(xué)超構(gòu)表面的最新進(jìn)展。文章最后對(duì)非線(xiàn)性光學(xué)超構(gòu)表面在太赫茲非線(xiàn)性光學(xué)、量子信息處理等領(lǐng)域的潛在應(yīng)用的前景作了展望。

已有樣品/n為降低 LED 全彩顯示屏點(diǎn)距，本成果采用 RGB 全彩顯示單元陣列（n×n）作為 高清 LED 顯示屏的最小封裝體，突破了超小點(diǎn)距（P0.7mm）RGB 全彩顯示單元陣列 制備工藝中的關(guān)鍵技術(shù)，包括：超小尺寸（8mil 以下）紅綠藍(lán)倒裝芯片制備技術(shù)、 倒裝芯片共晶焊工藝技術(shù)、PCB 導(dǎo)電通孔基板的盲孔工藝技術(shù)、全彩顯示陣列底板 的金屬互連工藝技術(shù)、全彩顯示陣列底板行列布線(xiàn)的電絕緣工藝以及芯片間的光隔 離技術(shù)。 隨著LED技術(shù)的進(jìn)步，LED顯示技術(shù)已經(jīng)成為室外顯示的主導(dǎo)技術(shù)，隨之超小點(diǎn)

已有樣品/n飛秒電子衍射的主要特點(diǎn)是可以在非常短的時(shí)間尺度上（ps或fs量級(jí)） 顯示反應(yīng)熱、 光、 電， 以及化學(xué)反應(yīng)等對(duì)物質(zhì)結(jié)構(gòu)變化的影響， 是研究微晶、 表面、 以及薄膜的晶體結(jié)構(gòu)的先進(jìn)手段。

開(kāi)發(fā)了一種柔性超疏水氣凝膠材料。柔性超疏水氣凝膠材料采用物理溶膠-凝膠工藝將有機(jī)纖維和有機(jī)氣凝膠復(fù)合，由于不采用傳統(tǒng)的水解/聚合溶膠-凝膠工藝，該方法操作更簡(jiǎn)捷、對(duì)設(shè)備和工藝要求更低。所得到的柔性超疏水氣凝膠材料具有良好的柔性和疏水性能，而且不“掉粉掉渣”，具有良好的耐水洗性能。該柔性超疏水氣凝膠材料在室溫下的熱導(dǎo)率為0.03~0.05W/(m·K)。

常用的鋰電池在被刺穿或擊穿的情況下會(huì)馬上短路，通常會(huì)立即起火甚至爆炸，并立即失去電源功能。課題組研發(fā)了一款具有應(yīng)急功能的12V-22AH鋰電池。該電池該在被刺穿（或擊穿）的情況下不會(huì)爆炸或起火，而且還能繼續(xù)給負(fù)載供電一段時(shí)間（30分鐘以上）。該電池使用安全性能優(yōu)異的正極和負(fù)極材料，并在膠體電解液中添加了阻燃聚合物和導(dǎo)熱聚合物，確保電池被刺穿時(shí)不會(huì)起火和嚴(yán)重短路，只表現(xiàn)出可接受范圍內(nèi)的壓降，不會(huì)馬上斷電，還可以繼續(xù)給負(fù)載供電一段時(shí)間。該電池是一款超級(jí)安全并有特殊應(yīng)急功能的鋰電池，可以用于軍工電源產(chǎn)品和其它極端環(huán)境下的電源系統(tǒng)。

拋光是一種常見(jiàn)的表面加工技術(shù)，主要目的是降低表面粗糙度、去除損傷層，最終獲得光滑且無(wú)損傷的高質(zhì)量表面。無(wú)論是日常生活中的消費(fèi)用品還是制造技術(shù)高度集成的半導(dǎo)體芯片，拋光加工都是保證表面質(zhì)量不可或缺的技術(shù)手段。近年來(lái)，在金屬材料超精密加工領(lǐng)域，具有復(fù)雜外形和內(nèi)腔的金屬零件的拋光一直是工業(yè)界所面臨的技術(shù)難題。傳統(tǒng)的諸如化學(xué)機(jī)械拋光、激光拋光以及磁流變拋光

依托國(guó)家重大儀器專(zhuān)項(xiàng)“高精度光梳成像分析儀應(yīng)用與工程化開(kāi)發(fā)”（2012-2019年）、國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃“超短脈沖激光隱形切割系統(tǒng)及應(yīng)用” （2018-2022年），在可見(jiàn)和近紅外波段實(shí)現(xiàn)了高光束質(zhì)量、高偏振消光比、抗環(huán)境干擾的超短脈沖輸出。期間，攻克了超短脈沖自穩(wěn)定鎖模技術(shù)、低非線(xiàn)性無(wú)畸變脈沖放大技術(shù)，解決了脈沖鎖模器件易受光致?lián)p傷這一制約超快激光發(fā)展和應(yīng)用的根本問(wèn)題，成功實(shí)現(xiàn)了鎖模光纖種子源光路的永久免維護(hù)。項(xiàng)目開(kāi)發(fā)了國(guó)內(nèi)首臺(tái)第三代半導(dǎo)體晶圓劃片激光器，在應(yīng)用單位進(jìn)行芯片封測(cè)量產(chǎn)，解決了機(jī)械劃片效率低、易崩邊的難題。項(xiàng)目開(kāi)發(fā)的激光光源在THz光譜儀器、光子3D打印、非線(xiàn)性光譜成像、激光精密測(cè)量等領(lǐng)域進(jìn)行示范應(yīng)用。

? 鈣鈦礦具有優(yōu)異的非線(xiàn)性特性，在此基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)了具有特定諧振波長(zhǎng)的光柵式超構(gòu)表面，從而增強(qiáng)了鈣鈦礦三光子上轉(zhuǎn)換發(fā)光(three-photon luminescence, TPL)過(guò)程。深入研究發(fā)現(xiàn)，這種共振增強(qiáng)的三光子發(fā)光同樣適用于4周期超構(gòu)表面，只有當(dāng)入射波長(zhǎng)是共振波長(zhǎng)時(shí)，編碼信息“NANO”才可見(jiàn)。這一研究成果拓展了鈣鈦礦超構(gòu)表面在高分辨率非線(xiàn)性彩色納米印刷和