等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PCVD)技術(shù)
等離子體增強化學(xué)氣相沉積(PCVD)技術(shù)是在一定溫度和氣壓的真空爐內(nèi)通入工作氣體,產(chǎn)生輝光放電,激活沉積反應(yīng),從而在基材表面形成耐磨損、抗氧化的陶瓷涂層。本項目為PCVD工業(yè)生產(chǎn)型設(shè)備及模具強化成套技術(shù),1999年1月通過了國家教育部組織的技術(shù)鑒定,認為該項目在設(shè)備總體結(jié)構(gòu)的優(yōu)化設(shè)計、逆變式脈沖直流等離子體技術(shù)、脈沖直流PCVD法制備高性能TiN陶瓷涂層和
西安交通大學(xué)
2021-01-12