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EGFR（表皮生長因子受體）是一種重要的腫瘤靶點，與多種惡性腫瘤的發(fā)生和發(fā)展有關(guān)。西妥昔單抗作為靶向EGFR的單克隆抗體藥物在轉(zhuǎn)移性結(jié)直腸癌的治療中具有重要地位，其安全性和有效性已在臨床上得到廣泛驗證，已從三線治療藥物躍居至一線治療藥物。 然而，在用藥過程中EGFR胞外區(qū)耐藥點突變的產(chǎn)生大大限制了西妥昔單抗的療效，其中一些高頻點突變?nèi)鏢492R、G465R可使西妥昔單抗完全失去結(jié)合EGFR的能力，患者用藥后獲益大打折扣。當(dāng)前臨床上仍缺乏有效的抗體新藥應(yīng)對EGFR胞外區(qū)點突變介導(dǎo)的西妥昔單抗耐藥問題。 因此，探索高效率的抗體藥物開發(fā)策略用于開發(fā)能夠有效逆轉(zhuǎn)EGFR胞外區(qū)點突變耐藥的抗體新藥，并應(yīng)對臨床上越發(fā)頻現(xiàn)的因靶標(biāo)受體發(fā)生點突變而導(dǎo)致的耐藥是迫切需要解決的臨床問題。 研究團(tuán)隊針對行業(yè)痛點開發(fā)了計算機(jī)輔助設(shè)計的抗體快速定向進(jìn)化技術(shù)，發(fā)現(xiàn)西妥昔單抗可變區(qū)上的一個或兩個點突變即可逆轉(zhuǎn)多種EGFR的獲得性點突變耐藥，西妥昔單抗突變體可完全恢復(fù)對耐藥點突變受體的結(jié)合能力，同時保留原有抗體的其他生物學(xué)功能（如CDC、ADCC），從而以最小改動最大限度保留了抗體突變體的成藥性。該技術(shù)為臨床上獲得性點突變耐藥提供了高效率解決方案，可極大加快抗體新藥研發(fā)進(jìn)程。

鋼渣是鋼鐵生產(chǎn)過程的副產(chǎn)品，目前全國鋼渣累積堆存近10億噸，綜合利用率僅為10%，大部分鋼渣處于堆存和填埋狀態(tài)，占用大量耕地，污染環(huán)境。本技術(shù)采用特殊反應(yīng)工藝，利用溫室氣體CO2及化學(xué)外加劑激發(fā)鋼渣，形成以CaCO3為主要組分的碳酸鹽基膠凝材料，用于制備低碳建材制品(如建筑砌塊、磚塊、透水混凝土、保溫、隔音制品等)。該材料具有低碳、耐火、耐久、能消納大量固體廢棄物的優(yōu)點，可廣泛應(yīng)用于制造系列建筑結(jié)構(gòu)或功能材料。申報人自主設(shè)計并組裝了相關(guān)試驗和中試裝置，研究

何鳳課題組實現(xiàn)了有機(jī)太陽能電池效率和穩(wěn)定性的雙重提高。目前何鳳課題組研制的氯取代聚合物太陽能電池能量轉(zhuǎn)換效率達(dá)到11.2％，是富勒烯類有機(jī)太陽能電池體系最高效率之一。 何鳳教授介紹，氯原子具有較強(qiáng)的電負(fù)性和原子半徑，能夠在更大的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)分子的能級結(jié)構(gòu)，提高有機(jī)太陽能電池的開路電壓和效率。同時，氯原子在外圍有空的3d軌道，可以賦予電子單元或共軛體系更強(qiáng)的相互作用，同時可通過這種強(qiáng)的分子間相互作用有效地調(diào)節(jié)材料的薄膜穩(wěn)定性，使其器件使用壽命長于其他太陽能電池。 此外，氯取代策略在合成上相對容易而且原材料價格較低，因此在工業(yè)生產(chǎn)過程中能夠大大節(jié)約成本，有利于太陽能電池的批量生產(chǎn)和商業(yè)化推廣。

工業(yè)級SLA打印機(jī)二極管泵浦固體激光Nd:YVO4波長的控制研發(fā)控制程序的編程研發(fā)

本發(fā)明公開了一種超疏水涂料的制備方法及其所得涂料和制備高透明超疏水涂層的應(yīng)用，所述超疏水涂料的制備方法包括如下步驟：向容器中一次性加入一定體積的溶劑，共溶劑，催化劑，然后以一定轉(zhuǎn)速攪拌一段時間，再向其中先后加入一定體積的硅酸酯和含氟硅氧烷，在室溫的條件下，繼續(xù)反應(yīng)一定時間，即得所述涂料。本發(fā)明所制備的超疏水涂料可以通過噴涂、蘸涂、浸涂等方法，用于玻璃，紙片，鋼鐵等不同的基底上，所制備的涂層在可見光的范圍內(nèi)，透過率達(dá)到92％以上。與現(xiàn)有技術(shù)相比，不僅所制備的涂層制備方法簡單，成本低廉，有利于大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)，所制備的涂層具有多種用途，如車窗玻璃，摩天大樓光幕，手機(jī)和電腦屏幕等，有很大的商業(yè)價值。

本發(fā)明公開了一種高靈敏的ZnO/AlN核鞘納米棒陣列紫外光探測器的制備方法，包括如下步驟：在藍(lán)寶石襯底上生長ZnO納米棒陣列；采用磁控濺射法在ZnO納米棒上濺射不同厚度的AlN鞘層薄膜；采用濺射法或者電子束蒸鍍分別在ZnO/AlN核鞘納米棒陣列兩端制備具有歐姆接觸的金屬電極，構(gòu)成完整的器件。本發(fā)明通過簡單的磁控濺射方法，控制濺射時間，在ZnO納米棒上生長不同厚度、表面光滑均一的AlN鞘層薄膜，制備的ZnO/AlN核鞘光探測器件不僅具有更好的紫外光響應(yīng)，在360nm紫外光照射下，電壓為5V時，明暗電流比為5.5×103，提高了一個數(shù)量級，同時具有更快速的響應(yīng)和恢復(fù)時間，分別是0.883和0.956s。

在調(diào)研國內(nèi)千萬噸級綜放工作面生產(chǎn)地質(zhì)條件的基礎(chǔ)上，分析實現(xiàn)千萬噸級目標(biāo)綜放面所需的基本條件。測試工作面煤巖力學(xué)參數(shù)，掌握了工作面煤巖力學(xué)特性，為理論分析提供理論基礎(chǔ)。從地質(zhì)因素、設(shè)備配套因素、開采技術(shù)因素以及管理因素等方面分析各因素對千萬噸級大采高綜放工作面設(shè)備配套的影響，分析千萬噸級大采高綜放工作面目標(biāo)實現(xiàn)的地質(zhì)條件適應(yīng)性、頂煤的冒放性和實現(xiàn)安全高效開采的主要途徑。采用相似模擬試驗，獲得采場圍巖運移及應(yīng)力分布規(guī)律，建立煤壁穩(wěn)定性分析的力學(xué)模型，分析煤壁的穩(wěn)定性，獲得工作面支架支護(hù)強(qiáng)度的基本要求。優(yōu)化研究工作面參數(shù)及開采工藝，探索各參數(shù)對工作面生產(chǎn)能力的影響并提出在不同開采條件下工作面參數(shù)的確定方法和基本要求，探索生產(chǎn)系統(tǒng)中各工序參數(shù)對工作面生產(chǎn)能力的影響規(guī)律，分析生產(chǎn)系統(tǒng)技術(shù)改造對工作面生產(chǎn)能力的影響，找出生產(chǎn)工藝系統(tǒng)中的薄弱工序和最優(yōu)放煤工藝，提出在不同條件下的工作面生產(chǎn)工藝參數(shù)優(yōu)化配置，為大采高綜放面設(shè)備選型提供依據(jù)。研究 “三機(jī)”配套的總體原則，單機(jī)配套時的選型原則和工作面設(shè)備的基本要求，為試驗面設(shè)備的配套、選型提供依據(jù)。(1)提出了年產(chǎn)千萬噸級綜放面開采地質(zhì)條件的基本要求，分析了千萬噸級大采高綜放面安全高效開采的影響因素。(2)在系統(tǒng)研究大采高綜放采場圍巖運移及應(yīng)力分布規(guī)律、煤壁片幫機(jī)理、工作面參數(shù)、回采工藝的基礎(chǔ)上，深入研究了工作面“三機(jī)”配套選型，提出了相應(yīng)的配套原則和配套參數(shù)。(3)研制了 ZF15000-23/43 正四連桿大采高綜放低位放頂煤液壓支架、整體自移式ZTZ20000/25/50 型端頭自移支架、ZTC30000/25/50 型超前支護(hù)支架以及 KSW-1500EU 型電牽引采煤機(jī)，并進(jìn)行了現(xiàn)場工業(yè)試驗，保障了千萬噸級大采高綜放工作面平均日產(chǎn)達(dá) 3 萬t。(4)制定了“千萬噸級大采高綜放工作面設(shè)備配套選型技術(shù)要求”技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)。

本發(fā)明提供的具有高單縱模成品率的脊波導(dǎo)分布反饋(DFB)半 導(dǎo)體激光器，是由自下而上依次排列的 N 型電極(1)、襯底(2)、下包層 (3)、下分別限制層(4)、應(yīng)變多量子阱有源層(5)、上分別限制層(6)、緩 沖層(7)、光柵層(8)、上包層(9)、第一脊條(10)、第二脊條(11)、第一 脊條上的 P 型電極(12)、第二脊條上的 P 型電極(13)組成。本發(fā)明通過 在單個半導(dǎo)體激光器管芯上制作端面反射率相位相差π/2 的兩個

近日，Materials view China 網(wǎng)站報道了華東師大精密光譜科學(xué)與技術(shù)國家重點實驗室黃國翔教授課題組發(fā)表于國際著名學(xué)術(shù)期刊?Laser and Photonics Reviews?的研究成果“穩(wěn)定的高維弱光孤子分子及其主動操控”（Stable High-Dimensional Weak-Light Soliton Molecules and Their Active Control）。