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MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

EV-246小型電阻蒸發鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 蒸發源：4～6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定； 蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調； 基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：直徑450?H400mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，前開門結構； 真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）； 極限真空：優于5?10-5Pa（經烘烤除氣后）； 真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min； 升降基片臺：2～6英寸基片臺，靶基距60～120mm連續在線自動可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至500℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能； 磁控靶：直徑3英寸2～4只（可升級成直徑4英寸靶2～3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材； 濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選； 質量流量計：2～3路工藝氣體，可根據工藝要求增加； 膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。

SEV-400手套箱金屬有機蒸發鍍膜機 真空腔室：采用立式方形結構，前門為水平滑開式，位于手套箱體內部，前開門便于蒸發材料和樣片在保護環境下裝卸，后開門便于真空室的清理維護（后門帶鎖緊裝置在充氣條件下保持腔室密閉與大氣環境隔離），整機位于手套箱體下面，節約占地面積； 真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限高達2.0?10-5Pa，另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3.0?10-6Pa； 真空抽速：大氣～5?10-4Pa≤30min（手套箱環境中）； 基片臺：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板，基片臺公轉，轉速0～20r/min可調，襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距最大350mm； 蒸發源及電源：4～6組歐美技術金屬或有機束源爐蒸發源可選，多元共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制，電流、功率可以預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能； 膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚； 控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。