維意真空高真空金屬有機蒸發鍍膜機支持定制
EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機
真空腔室:前開門真空腔體,方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養;
真空系統:國產分子泵作為主抽泵,真空極限優于5.0?10-5Pa(經烘烤除氣后);另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵,真空極限優于3.0?10-6Pa(經烘烤除氣后);
真空抽速:大氣~8?10-4Pa≤30min;
蒸發源:4~6組歐美技術金屬或是有機束源爐蒸發源可選,多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜,功能強大,性能穩定;
蒸發電源:真空專業蒸發電源,恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置,可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能;
基片臺:最大120mm基片/15~25mmITO/FTO玻璃25片,可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;基片臺公轉,轉速0~20r/min連續可調;
基片臺功能:襯底可選擇加熱(室溫~300℃可調可控)或水冷,基片臺可選升降,源基距最大350mm;
濺射電源:直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選;
膜厚監控儀:可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀;
可鍍材料:可沉積金屬(Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等)、非金屬、化合物(MoO3、LiF等)及有機材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;
控制方式:PLC+觸摸屏控制系統,具備漏氣自檢與提示、通訊故障,實現一鍵抽停真空。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25