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超遠科技主要提供數控機床裝調維修技術改造服務；提供智能制造改造服務（產線機械設計、電氣控制設計、MES控制系統、智能制造控制系統調試驗證平臺）；旗下的教育事業部為職業院校提供智能制造、數控設備維修等方向整體教學解決方案（人才培養方案、教學實訓設備、生產實習設備、實訓場地規劃、教師專業技術培訓、教師課程開發培訓、校企合作、國際交流）；為數控機床裝調維修技術改造技能競賽和智能制造應用技術賽項提供競賽設備和技術支持服務。  2008年成立以來，公司先后成為廣東省高新技術企業；國家人力資源與社會保障部職業技能鑒定數控機床裝調維修題庫開發參與單位；中國教育技術協會仿真技術專業委員會現代制造仿真技術研究會秘書長單位；廣東省數控機床裝調維修考核鑒定技術支持單位；廣東及全國職業院校數控機床裝調維修改造技術大賽指定設備供應商和技術支持單位；中國管理科學研究院企業管理創新單位；廣東省技工院校微課大賽指定技術平臺提供商和技術支持單位。 超遠企業將不斷開拓創新，與時俱進，砥礪前行，為中國智能制造和工業職業教育事業的發展做出貢獻！  

超微量分光光度計是一類很重要的分析儀器 ,無論在物理學、化學、生物學、醫學、材料學、環境科學等科學研究領域 ,還是在化工、醫藥、環境檢測、冶金等現代生產與管理部門 ,超微量分光光度計都有廣泛而重要的應用。超微量分光光度計就是利用分光光度法對物質進行定量定性分析的儀器，常用于核酸，蛋白定量以及細菌生長濃度的定量。超微量分光光度計已成為現代分子生物實驗室常規儀器 儀器特點 *檢測所需樣微量，Z低只需0.5ul ,超微量和比色皿雙平臺 *檢測范圍寬，比傳統的分光光度計的上限高100倍 *對于多數樣品而言，無需稀釋 *機器無需預熱，直接測量，無需檢測容器，日常消耗低 *全波長190-1100nm，分辨率1nm，儀器都自動給出全波長的掃描結果190-850nm *體積小巧，便攜式包裝，滿足現場檢測的需求 *通過PC控制實現更精確和靈活的測量

云之翼超融合一體機是自主研發的新一代超融合解決方案。基于云之翼自研的服務器虛擬化和存儲虛擬化技術，將計算、存儲和網絡集成于X86服務器之中，并通過云管理平臺實現IT資源的可視化管理，為客戶提供硬件與軟件，產品與服務一體的云數據中心。  云之翼超融合一體機實現了資源模塊化的橫向彈性伸縮，形成統一的計算與存儲資源池，不僅可以減少數據中心服務器數量，整合IT資源，達到提高資源利用率和降低整體擁有成本的目的；而且可以利用軟件定義數據中心技術，建立一個安全的、資源可按需調配的數據中心環境，為業務部門提供成本更低、服務水平更高的IT基礎架構，從而能夠針對業務部門的需求做出快速的響應。 一、產品優勢 降低成本 1、空間、電力和運維成本都大幅降低，可有效節省40%-60%的綜合成本；2、支持存儲舊產品，可對現有的物理存儲進行集中管理，進行利舊建設； 數據更安全 1、數據多副本存儲，無需任何額外成本，即可實現數據雙活；2、數據可靠系數高達99.99% ；3、數據可用性更高，最大支持10副本； 多平臺支持 1、支持Citrix、VMware、Hyper-V、KVM等多種虛擬平臺，實現不同的超融合組合方式；2、支持與Amazon S3等第三方平臺對接，實現混合云存儲模式； 降低門檻  1、軟硬件一體化整合，開箱即用；2、僅需x86服務器，無需購買獨立存儲, 簡化網絡拓撲； 性能更卓越  1、I/O路徑全優化，多種數據本地化優化；2、對服務器及存儲虛擬化進行深度優化，存儲性能提升30%?50%； 按需建設 1、根據當前需求最小化建設，支持橫向擴展，避免硬件過度投資；2、支持動態添加、積木式建設、線性高效擴容，適應不同時期業務，按需擴展； 二、應用場景 軟件定義數據中心 借助超融合架構，以軟件定義的IT架構實現統一融合的數據中心全虛擬化資源池建設。 開發與測試平臺 借助超融合架構，智能調度計算、存儲和網絡資源，實現開發測試環境的快速搭建。 分支機構 借助超融合架構，為分支機構提供一站式業務應用交付，實現總部對分支機構資源的統一管理。 桌面云建設 通過超融合構建桌面云，不僅可以提供桌面云所需的性能、可用性、可擴展性，同時還可以降低架構的復雜性、管理難度，以及建設成本。 關鍵業務應用 關鍵應用對業務連續性和性能都要求非常高，將關鍵應用部署在超融合上，可以提高系統的性能、可擴展性、可管理性，同時降低成本。 應用新建及擴容 借助超融合架構，實現計算、存儲、網絡資源池化，提供應用快速上線和資源按需擴展的能力。

1秒內就能準確計數EVE™ PLUS可與所有細胞核計數儀相媲美，具有高度準確性和精密度。通過標準的臺盼藍染色法來實現1秒內準確地測量細胞數量和存活率，可以將成團細胞識別為獨立的單細胞，以便進行準確的分析。 1秒內完成細胞計數 使用簡單 自動保存多達500個的數據(郵件或USB都可行） 基于單個和成團細胞計數模式有很高的準確性 自動&手動聚焦 和人工計數結果高度相關EVE™ PLUS測量范圍優于hemocytometer。計數結果全面EVE™ PLUS測量總細胞，活細胞和死細胞的數量和濃度。能提供細胞存活率和細胞大小閥門功能。自動聚焦&手動聚焦自動聚焦：5秒后，細胞總數、活細胞數、死細胞和存活率都會顯示在屏幕上。細胞濃度和大小等更多細節也會顯示。手動聚焦：當通過按ZOOM鍵獲得滿意的圖像時，就可按COUNT進行計數。計數1秒后，細胞總數、活細胞數、死細胞和存活率都會顯示在屏幕上。細胞濃度和大小等更多細節也會顯示。成團細胞單獨計數用EVE™ PLUS、ADAM™ MC2(細胞核計數儀)和其他制造商的自動細胞計數儀(A、B和C)分別對成團細胞進行計數。針對所有細胞系，EVE™ PLUS可與其他細胞核計數儀相媲美，具有高度準確性和精密度。其他自動細胞計數儀A、B和C在成團細胞中都顯示了不準確的數字。EVE™ PLUS能夠識別和計數成團細胞中的單個細胞，從而進行準確的分析。設備參數

本發明提供一種耐高溫隔膜，包括下述主料：無機陶瓷材料60?90份，高分子粘接材料10?40份。本發明的耐高溫隔膜在200℃無收縮，能夠應用于超級電容器且顯著提高超級電容器的耐溫性，同時具有良好的柔性、機械強度、以及充放電循環的穩定性。本發明創造旨在提出一種耐高溫隔膜，能夠顯著提高超級電容器的耐溫性，同時具有良好的柔性、機械強度、以及充放電循環的穩定性。/line為達到上述目的，本發明創造的技術方案是這樣實現的:一種耐高溫隔膜，包括下述主料：無機陶瓷材料60-90份，高分子粘接材料10-40份。/line其中，所述無機陶瓷材料優選的占主料總重的70-85％。/line在上述主料中，無機陶瓷材料作為隔膜的機體材料，在極高溫度下仍能保持穩定的化學結構，并且在較高電壓下也不會發生氧化還原反應，可以保證隔膜在高溫下不收縮，在充放電過程中不會通過氧化還原反應分解，起到穩定隔膜骨架的作用、同時，這些無機陶瓷材料還具備極低的電子電導率，可以減小超級電容器的自放電效應。高分子粘接材料可以將無機陶瓷材料粘接在一起，使隔膜保持高的機械強度以及良好柔性。

本發明涉及一種在線監控電池和電容器安全性能的方法，屬于能源安全相關領域。本發明所要解決的技術問題是為了有效在線監控電池和電容器由于微觀應變引起的宏觀形變，對其熱效應和脹氣等安全性能進行實時有效管理，對安全事故進行預警，消除爆燃等安全隱患，對事故原因進行在線分析。本發明技術方案采用無損應變檢測方法，將應變片分布在電池和電容器表面，實時監控其運行過程中的應變變化，對即將失效的組件進行提前預警并處置，有利于對電源有效安全管理并對失效過程與原因進行原位分析，將事故消除在萌芽狀態。本發明的無損在線監控電池和電容器形變安全性能的方法簡單，快速、準確，可操作性強，適用于能源器件的長期可靠安全預警與事故分析。

項目研究背景： 當前，美國、日本等國家采用 T1200\T1800 等材料進 行了大量研究，也取得了相應的技術成果，但因其成本高、成型難度大， 使其應用收到限制。 對吸波碳纖維纏繞壓力容器成形必須進行精確的復合 材料結構設計及可靠性的準確預報，以確保其成形質量，其工藝工程十分 復雜，它涉及許多設計變量。 研究內容 ：對吸波碳纖維纏繞壓力容器成形研究主要內容為： 1、采用價格相對低廉的 T7

本發明公開了一種用于直流濾波電容器的熔絲參數獲取方法， 包括(1)將金屬化膜試品置于自愈試驗平臺中，通過設置試驗溫度并施 加壓強來進行自愈試驗，獲得金屬化膜試品的自愈電壓和自愈電流； (2)根據金屬化膜試品的自愈電壓和自愈電流獲得自愈電弧電阻，并根 據自愈電弧電阻獲得電阻模型，根據電阻模型獲得自愈電弧電阻參數 最小值，最大值以及時間參數；(3)搭建安全膜仿真模型，設置安全膜 仿真模型中自愈電弧電阻參數、自愈成功時的擊穿電壓、自愈失敗時 的擊穿電壓，并計算不同熔絲數量下自愈成功和自愈失敗時流過安全 膜

目前精萘的工業生產法，一般采用箱式分步結晶、似精餾原理的區域熔融結晶方法，工 藝包括工業萘的溶解、冷卻、發汗、結晶等重復性的五級或七級分步結晶。在“萘”的結晶 過程中，由于雜質硫茚與萘會形成共熔體，也會在結晶中析出，降低純化能力。為達到所需 的純度，需多次重復這樣的結晶操作。但受分離推動力的限制，獲得的產品精萘仍含有硫茚 0.2～0.5%，甚至0.9%，它是影響“萘”制四氫化萘、十氫化萘 (萘滿) 催化劑壽命以及碳纖維 質量的關鍵因素之一。 本項目通過加入化學添加劑增加分離推動力，研制的無硫超精萘、,其結晶點、灰分、不 揮發物、比色等達到高端化學試劑的程度，可有效應用于萘加氫產品四氫化萘、十氫化萘及碳 纖維等新能源及新材料領域。

 隨著激光技術的不斷發展，超快超強激光可以在飛秒的時間尺度（1飛秒=10-15 秒）內作用于電子使電子產生約0.1納米（1納米=10-9米）量級的空間位移。利用超短超強激光脈沖，人們將可以實現分子尺度下的電子位置的超快及超高精度的位置控制。然而現有的探測技術，卻無法實現對電子如此微小位移的精確測量。隧道掃描顯微鏡（STM）利用的電子量子隧穿信號能以0.1納米的橫向和0.01納米的縱向分辨率對靜止的原子進行成像，卻無法對運動中的電子進行成像。光電子顯微鏡（PEEM）成像系統雖然可以測量運動電子的位置，但是其最好的分辨率僅能達到約3納米，無法在0.1納米的尺度進行位移測量。日前，該團隊利用強場電離中的時間雙縫干涉圖樣，提出對電子在激光脈沖下的微小位移進行了測量的新方案，該方案的分辨率可達0.01納米。為了測量電子在超短脈沖作用下的位移，他們把導致電子位移的超短脈沖置于兩束較長反向旋轉的圓偏振光之間。兩束反旋向的圓偏振光先后分別電離電子，構成時間上的電子波包雙縫干涉，這在電子動量譜中產生渦旋結構。在沒有中間的超短脈沖時，該渦旋結構角向是均勻分布的。當中間加入了一束任意的被測超短脈沖，它將作用于前一圓偏光電離的電子使之產生微小位移，這個微小位移使得電子波包獲得一個額外相位，從而導致先后兩個電子波包的干涉結構在角方向產生了非均勻性。他們提出通過測量這個非均勻的角向分布，可以準確地提取出電子在超短脈沖作用下產生的亞納米量級的微小位移。他們的方案對激光的焦斑效應以及兩束圓偏振光的相位抖動具有很好的抗干擾能力。左圖：新方案示意圖；右圖：測量方案給出的理論預測結果。 理論提出并在實驗上實現了對橢圓偏振強激光橢偏率的原位測量新方案。他們利用兩束其它參數相同而旋向相反的橢偏光來電離惰性氣體氙（Xe）原子，強場電離得到的電子閾上電離譜和單電離離子總產率譜敏感地依賴于兩束光脈沖之間的延時。這些能譜和產率隨延時的周期性調制，能夠準確反映一個光學周期之中橢圓偏振光的電場強度的最小和最大值間的比值，因此可以用來準確提取每一束橢偏光的橢偏率。研究表明，這一橢偏率測量方案在很大的激光參數范圍內普遍適用，這一工作在準確表征超快強激光場的性質方面邁出了重要一步，將對強場物理研究中精細操控原子分子內的超快過程起到重要推動作用。