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產(chǎn)品詳細介紹KY-DRX-JH石墨導(dǎo)熱系數(shù)測試儀 主要測試導(dǎo)電物體在高溫時導(dǎo)熱系數(shù)，適應(yīng)于金屬材料銅，不銹鋼材料等金屬導(dǎo)電材料，非金屬導(dǎo)電材料石墨等的導(dǎo)熱系數(shù)，傳熱性能的研究。儀器采用直接通電縱向熱流法測定導(dǎo)體材料的導(dǎo)熱系數(shù)參考標準：GB3651-83《金屬高溫導(dǎo)熱系數(shù)測量方法》。GB8722-88《石墨材料中溫導(dǎo)熱系數(shù)測定方法》。 1、導(dǎo)熱系數(shù)范圍：20～500w/m·k 2、最高溫度1000℃。 3、儀器實現(xiàn)數(shù)字化測溫，精度優(yōu)于0.2級。 4、測量結(jié)果，準確度 ±3% 5、計量加熱功率可調(diào)節(jié)±1%。 6、試樣尺寸要求： 棒狀圓柱體：￠4-5*200(mm)， 絲狀式樣：  ￠1-3*mm 7：真空度和保護氣氛按用戶要求定制。 8：實現(xiàn)計算機全自動測試，升溫速度可控調(diào)節(jié)。  

產(chǎn)品詳細介紹 ZYT—DDC 單人單面紫外誘變臺（垂直）   這是一種供單人操作的通用型局部凈化設(shè)備，氣流形式為垂直層流，它可造就局部高清潔度空氣環(huán)境，同時又具備紫外誘變技術(shù)功能對生物研究、科技育種、科研制藥、農(nóng)業(yè)科技等部門，紫外誘變臺是您最好的助手。 特點： 1、操作區(qū)為全不銹鋼。 2、外型美觀結(jié)構(gòu)合理。 3、采用自定們上下推拉門系統(tǒng)。 4、風(fēng)量可調(diào)，雙側(cè)電源插座。 5、紫外線單個控制，時間定時功能。 技術(shù)指標：   型號 ZYT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作臺尺寸 870×650×570 潔凈等級 100級@≥0.5ｕm(美聯(lián)邦209E) 平均風(fēng)速 0.3—0.5m/s(可調(diào)) 噪音 ≤65dB(A) 振動 XYZ方向≤2ｕm 照明燈具 20W*1 感光燈 20W*1  紫外燈 主峰波長254NM  15W*3 紫外燈 主峰波長285NM  15W*3 電源 220V  50HZ 消耗功率 450W 備注 不銹鋼臺面，雙側(cè)電源，上下推拉門  

本發(fā)明公開了一種用于制備納米二氧化鈦-石墨烯復(fù)合材料的方 法，包括：（a）向濃度為 1-4mg/mL 的氧化石墨烯溶液中加入二氧化 鈦納米顆粒，其中氧化石墨烯與二氧化鈦之間的重量比控制為 10:1～ 1:10，并獲得分散液；（b）將所獲得的分散液置入反應(yīng)釜中，在120-200℃ 的條件下執(zhí)行水熱反應(yīng) 2-12 小時，然后經(jīng)過冷凍干燥處理即得到具備 三維多孔結(jié)構(gòu)的納米二氧化鈦-石墨烯復(fù)合材料產(chǎn)品。本發(fā)明還公開了

一種利用過硫酸鹽及負載鐵錳雙相復(fù)合氧化石墨烯去除水中內(nèi)分泌干擾物的方法，它涉及一種去除水中內(nèi)分泌干擾物的方法。本發(fā)明的內(nèi)容是要解決現(xiàn)有去除水中內(nèi)分泌干擾物的方法去除效率低，成本高，副產(chǎn)物多，吸附劑難回收和不能大規(guī)模去除特定有機污染物的問題。方法：一、將過硫酸鹽與預(yù)處理的水混合；二、調(diào)節(jié)反應(yīng)pH值；三、制備負載鐵錳雙相復(fù)合氧化石墨烯；四、投加負載鐵錳雙相復(fù)合氧化石墨烯；五、采用外磁場分離負載鐵錳雙相復(fù)合氧化石墨烯，即完成一種利用過硫酸鹽及負載鐵錳雙相復(fù)合氧化石墨烯去除水中內(nèi)分泌干擾物的方法。使用本發(fā)明的方法去除水中內(nèi)分泌干擾物的去除率可達85％～95％。本發(fā)明可以去除水中殘余內(nèi)分泌干擾物。

電流變液在具有廣泛的應(yīng)用前景，但是目前的巨電流變液采用極性分子包覆的方法，壽命很短，無實 數(shù)值孔徑是光學(xué)透鏡最重要的基本參量，衡量著光學(xué)系統(tǒng)的收集光子能力。對于顯微物鏡，數(shù)值孔徑 用價值。本項目已制備出納米碳鑲嵌在二氧化鈦表面的顆粒，與硅油混合后得到屈服強度高、漏電流低、 越大，成像光斑越小，成像細節(jié)越清晰。常規(guī)油浸物鏡由于采用了特殊的高折射率匹配液，在高分辨率成 壽命長、溫度穩(wěn)定性好的電流變液，達到實用的水平。計劃擴大生產(chǎn)量，并將電流變液應(yīng)用在阻尼器上， 像和浸潤式光刻中更被廣泛應(yīng)用。超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)是一種具有橫向亞波長尺度的微納光學(xué)結(jié)構(gòu)，可以在不 實現(xiàn)實用化。

以混合自適應(yīng)人工智能優(yōu)化程序設(shè)計出亞波長單晶硅超構(gòu)表面結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)了相位的精確控制并減小了單晶硅結(jié)構(gòu)在可見光的吸收。進一步使用該結(jié)構(gòu)演示了浸鏡油浸沒下數(shù)值孔徑為1.48的高透過率超構(gòu)光學(xué)透鏡。

中協(xié)高靈敏擴聲系統(tǒng)融合了二合一桌麥、新型隱藏麥、吊麥、手持麥和手機麥多種擴聲手段，融合先進的高靈敏擴聲技術(shù)，拾音距離廣，為高校教學(xué)創(chuàng)造更加高效、便捷、靈活的擴聲環(huán)境，有效滿足現(xiàn)代教學(xué)對聲音處理的需求。

半焦是利用低變質(zhì)非煉焦煤低溫干餾所制得的固體產(chǎn)物，以其固定碳含量高（ >82% ）、電阻率高、化學(xué)活性高、灰分低（ <6% ）、低鋁、低硫（ <0.3% ）、低磷等特性，已逐步取代冶金焦而廣泛應(yīng)用于電石、鐵合金、碳化硅等產(chǎn)品的生產(chǎn)。在半焦生產(chǎn)過程中，約有 10% 的半焦焦粉因粒度小，不符合生產(chǎn)工藝要求而未能加以利用。本項目 通過在半焦焦末中添加金屬、金屬化合物或非金屬及其化合物并進行中低溫?zé)崽幚恚诒韧ǔＪ匾臏囟雀蜁r進行石墨化，并且因為金屬或非金屬粒子與碳原子的結(jié)合可同時實現(xiàn)功能化石墨粉的制備。可作為功能材料、添加劑、電極材料、貯氫材料等，廣泛應(yīng)用于國防和民用領(lǐng)域，成為現(xiàn)代工業(yè)及高、新、尖技術(shù)發(fā)展必不可少的非金屬材料。

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方 法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂 一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻 膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光 刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應(yīng)的掩模進行套刻曝光；(4)顯影： 將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得 到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經(jīng)過步驟(5)處理后得到的 結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按照本發(fā)明的 制備方法，工藝簡單，成本低廉，對該柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)的普及 應(yīng)用具有極大的促進作用。 

本發(fā)明公開了一種柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)制備方法，該制備方法包括如下步驟：(1)制作柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)底層：在基底上旋涂一層負性光刻膠，不用掩膜進行曝光；(2)在步驟(1)曝光后的負性光刻膠上旋涂一層負性光刻膠，利用陣列圖形掩膜進行曝光；(3)結(jié)構(gòu)層光刻膠第二次曝光：采用跟步驟(2)對應(yīng)的掩模進行套刻曝光；(4)顯影：將上述步驟中曝光后的結(jié)構(gòu)進行顯影；(5)鍍保護層膜：在步驟(4)中得到的結(jié)構(gòu)表面形成一層保護膜；(6)剝離：將經(jīng)過步驟(5)處理后得到的結(jié)構(gòu)從基底上剝離，得到所述柔性超疏水超疏油結(jié)構(gòu)。按