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“一種化學浴沉積擇優取向生長的納米晶Cu2O薄膜的制備方法”屬于半導體領域。現有方法一般對設備要求較高，需要比較復雜的程序，而最終難以控制成本，這會嚴重影響Cu2O薄膜的應用范圍。本發明提供的納米晶Cu2O薄膜的制備方法，其特征在于包括以下步驟：分別按照硫酸銅與檸檬酸三鈉的摩爾濃度比范圍為12∶8～12∶36，硫酸銅與抗壞血酸鈉的摩爾范圍為1∶3～5∶6，將抗壞血酸鈉、檸檬酸三鈉溶液依次加入硫酸銅溶液中，使充分絡合；調節溶液pH值至7.0～10.0；置于50°C～95°C水浴溫度中反應1.0h～3.

該技術是用鐵泥制備納米尺度 α-Fe 2 O 3 ， 首先，對鐵泥進行改性，使之全部轉化為Fe 2 O 3 ，經酸浸后制得到FeCl 3 ·6H 2 O，然后再進入合成與晶化過程，控制參數得到納米 α-Fe 2 O 3 產品。工藝路線如下：該技術采用水熱法制備 α-Fe 2 O 3 ，可有效控制反應過程，保證成核的均勻性，產品均為納米粒子，輔加表面活性劑會合成不同形貌的納米 α-Fe 2 O 3 。用于多種高端材料的制作原料。

一種平衡三叉樹的快速圖像置亂算法，算法簡單，置亂穩定且能快速達到理想的置亂效果，通用性好，并能抵抗一定的攻擊，可以很好的用于信息隱藏的預處理和圖像加密，而且可以滿足數字圖像加密和隱藏的魯棒性要求。

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產品詳細介紹  無菌接種箱   一、接種箱的作用   接種箱的作用是在無菌的條件下，進行細菌，食用菌等菌種的接種。   二、接種箱的構造   本產品采用全鋼結構，外表噴塑，臺面為三聚氫氨板或理化板結構。前觀察窗為70度的開啟角度為方便操作，接種箱前為兩個15公分的操作口，接種箱配有紫外線殺菌燈日光 燈和臭氧發生器。為方便散熱和換氣底部留有透氣孔。   三、接種箱的使用   使用前先有百分之五的甲醛或百分之七十的酒精進行消毒，然后打開殺菌燈即紫外線殺菌管和 臭氧發生器進行60分鐘的滅菌消毒。完成后再將照明開關打開，即可進行菌種的接種。 技術指標： 型         號   外形尺寸 操作區尺寸 電壓 日光燈 紫外線 臭氧發生器 WJ—ZJX（單面） 1000×530×600 1000×490×580 220V 20W×1 20W×1 100-200mg/h WJ—ZJX (雙面) 1000×900×600 1000×860×580 220V 20W×2 20W×2 100-200mg/h    

3D顯示已成為顯示技術發展的主流。本團隊經過多年的聯合攻關，攻克、掌握 了基于深度圖像繪制、深度估計、超高清多視點視圖合成、超高清裸眼3D全貼 合及校準等多項關鍵技術；已完成了多種3D顯示系統開發，包括基于深度圖像繪 制的視圖合成系統、實時2D轉3D系統、超高清裸眼3D顯示系統等。 基于深度圖像繪制（depth-image-based rendering, DIBR）系統完成了全高 清DIBR系統開發，并在此基礎上開發了一套2D轉3D系統。該系統只需要傳輸一 路視頻流及對應的深度信息，減少了傳輸帶寬。此外，該系統能夠方便地實現 3D顯示的深度調節、2D-3D視頻轉換，以及方便地支持各種裸眼3D顯示器。 超高清多視點裸眼3D顯示一體機完成了 一體機研發。研發的機型支持各種 顯示分辨率、支持多視點融合、支持基于Android, FPGA的一體機實時架構。 產品采用全貼合及校準工藝，能夠實現顯示屏幕與浮點型柱鏡光柵的的最佳匹配。

成果描述：3D打印設備和相關技術已應用到與寧江機床、遠景數控機床等企業合作項目的研究工作中，在儀器設備創新設計、鋼結構建筑關鍵環節零件制造等方面起到良好的促進作用。同時，應用3D打印技術支持成都某石油鉆頭企業改進了鉆頭模具制作工藝，使其產品成本下降，生產周期縮短至原來的1/2。完成了大型滾石風動模型的制作工作。與成都丙火創意產業有限公司合作進行家具創新設計的驗證。在與川大智勝的合作中進行人臉模型的數據處理與快速打印。目前正與我校生物醫學工程學科相關單位合作，開展個性化人工關節、人體義肢制作等方面的3D打印服務技術的開發工作。市場前景分析：本研究所在2001年開始使用紫外光固化快速CPS-350成型機，展開了對快速成型技術的跟蹤研究。從2003年開始，在機制專業本科生中開設《快速原型技術》課程，展開了從逆向設計中的數據處理、快速模具制造，到3D打印機的研發以及技術服務工作。與同類成果相比的優勢分析：基于3D打印的產品個性化定制服務模式與數字制造技術； 復雜機械產品3D模型的分層優化和路徑規劃技術； 網絡環境下3D打印定制和再制造業務協同引擎與運行平臺技術； 3D打印再制造服務關鍵技術與應用系統開發； 基于多軸聯動數控系統的3D打印原型樣機。

成果介紹 核心技術包括三維光場渲染算法+微透鏡陣列，從顯示內容到最終三維顯示的一站式裸眼3D解決方案，包括3D內容制作、人機交互方案、超高清二維面板、微透鏡陣列、三維渲染芯片。 2.專利成果和論文 目前專利16項，包括14項發明專利授權和2項發明專利公開，SCI/EI論文5篇，方案100%自主化。

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