一種極紫外光照射下的光學(xué)表面污染與清潔模擬裝置
本發(fā)明公開了一種極紫外光照射下的光學(xué)表面污染與清潔模擬裝置,包括:氫原子發(fā)生器接口、電子槍、電子槍室、電子槍接口、曝光腔、冷卻毛細(xì)管、試樣臺、試樣臺接口、氣體引入設(shè)備、渦輪分子泵、前級泵、RGA、RGA 接口、插板閥、放氣閥、電阻規(guī)以及隔斷閥,氫原子發(fā)生器接口、電子槍接口、試樣臺接口以及 RGA 接口均為開啟,且固接在曝光腔上,電子槍接口與試樣臺接口對稱設(shè)置在曝光腔的兩側(cè),使得電子槍與試樣臺處于一條水平線上,氫原子發(fā)生器接口設(shè)置于腔體上方,且與電子槍接口的軸線垂直,RGA 接口設(shè)置于實驗裝置的側(cè)方。
華中科技大學(xué)
2021-04-14