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乙醇回收滲透汽化膜是由無機材料經過高溫燒制制備而成的基膜為支撐層，在支撐層表面經過特殊制備工藝制備而成的致密膜為分離層的非對稱結構的管式復合膜，膜表面平整無缺陷，膜層厚度均勻；分離膜與基膜結合完好，具有抗污能強，使用壽命長的特點，可以用來富集低濃度的含醇溶液的富集。主要應用方向有：燃料乙醇發酵液、丁醇發酵液、低濃度含醇溶液中的醇類物質的富集。

產品詳細介紹土壤PF曲線測定(沙箱法)在檢驗土壤中植物及樹木能吸收的水的質量時，濕度特征（PF曲線）的測定是很重要的。依據需要的測量范圍，可選用真空法（即所謂沙箱法），或過壓法（膜設備）。采用沙箱法來測定濕度特征，需要靜態樣本。這些樣本由不銹鋼土樣環取得，而土樣環的填充則由其環座來完成。在實驗室中，將土樣浸透，然后稱重，以得出增加的水濕張力。水濕張力是通過建立一系列的真空，或過壓，來獲得的。每一次平衡調節后，對樣本稱重，這樣就能產生每一水濕張力的水分。pF測定裝置，沙箱法(pF 0-4.2)全套裝置可進行范圍0到r4.2之間的pF測量。裝置包括：一只沙箱，用于0 - 2.0之間的pF測量，最多可測40個土樣環。一個膜設備，用于3.0-4.2之間的pF測量，最多可測15個土樣環。一套土樣環工具（螺口連接），用來采集靜態土樣，取樣深度2米。帶土樣環的套管。鋁制土樣盒，用在干燥爐中干燥土樣。裝置還可配備直徑53毫米(08.27.SA)、60毫米(08.27.SB)的土樣環和環座。PF測定(沙箱法)，pF 0 - 2.0范圍在pF 0 - 2.0之間(0 - 0.1 巴)的標準裝置包括控制面板，吸力校準架，帶支架的供水瓶，濾布（140-150微米），容器，約為73微米的合成沙和顆粒，以及各種附件。沙箱中最多可放置40個土樣環。測量用的土樣，就是由土樣環取得的，其容量一般為100cc。除了標準裝置以外，還必須有一套土樣環工具、土樣環套管，以及鋁制的土樣箱。要進行pF測定，實驗室還應有天平和干燥爐。放置儀器的桌子應保持水平，并且不會震動。著手測量水濕張力之前，必須裝好各個部件，并將濾布裝到排水管上。隨后，用水和合成沙（沙不應含有氣穴或水窩），正確填充沙箱。如果操作過程都符合要求，可將土樣環中飽和的土樣放入沙箱，測量出完全浸透的土樣的水濕張力。接下來，使用更大的吸力。每次平衡調節后都對樣本稱重，得出每一水濕張力對應的水分。如果每次測試后沙箱都被水淹沒，那么它可以有幾年的使用壽命。銅環可防止藻類生長。pF測定（2.0 - 2.7，0.1 – 1巴）標準裝置包括一只帶控制面板的沙箱/瓷土箱，一個帶綜合控制面板的電子吸力控制裝置（壓力范圍0 - 600 hPa），裝有合成沙的容器，裝有瓷粘土的容器，以及各種附件。沙箱/瓷土箱適用于40個以下的土樣環。PF測定是在土樣環內的樣本上進行的，這些環的容量一般為100cc。除了標準裝置以外，還必須有土樣環工具，土樣環套管，以及鋁制的土樣箱。裝置的最少配置還包括天平和干燥爐。驗室中放置儀器的桌子應保持水平，并且不會震動。著手測量水濕張力之前，必須裝好各個部件，并將濾布裝到排水管上。隨后，將水、合成沙及瓷粘土（沙/粘土不應含有氣穴或水窩），正確填充到沙箱/瓷土箱中。排出的多余的水，用自動吸力控制裝置去掉。樣本上的不同吸力是由真空泵實現的。為了測量pF范圍0 - 2.7，可以一步步地設置沙箱/瓷土箱并使用。填滿的沙箱/瓷土箱，如果每次使用后都用水浸泡，那么可使用好幾年。銅環用來防止水藻生長。pF測試，膜設備(pF 3.0 - 4.2)如果是在3.0-4.2（1.0-15.5巴）的范圍內使用膜設備進行樣本pF值測量，那么土樣環中不用分割樣本。這種設備中，實驗室測量之前，半靜態樣本先浸透之后再放入合成塑料環。整套裝置包括壓力膜抽取器，最多用于15份樣本，一個帶減壓閥和壓力計的20巴壓縮機，一個空氣過濾器，.賽璐玢薄膜，濾布，合成土樣保存環，以及各種附件。實驗室中pF測量至少需要一個天平，一只干燥爐和帶蓋子的鋁制土樣箱。樣本浸透后，部分放入一只合成土樣保存環，進一步進行處理。將壓膜抽取器閉合后，其中的壓縮機產生過壓。達到平衡后，取出樣本，稱重，干燥后再稱重。為了測量更多的樣本，還可將另一個壓膜抽取器連接到第一個抽取器上。

菊花晶和金銀花晶具有清熱去火的功效，目前市售的菊花晶和金銀花晶主要 以粉末狀的形態存在，外觀形狀較差，且溶解時所需的時間較長。本項目開發的 菊花晶和金銀花晶顆粒較大，溶解性較好。 溶解時間：熱水中 3 s 以內全部溶解，不使用食品添加劑。 效益分析： 菊花和金銀花中的有效成分具有清熱去火等諸多功效，將其從菊花和金銀花 中提取出來制備成菊花晶和金銀花晶可以提高食用的方便。此外，將菊花晶和金 銀花晶與奶粉同時食用，可以有效降低嬰兒食用奶粉時引起的上火等問題。因此， 開發具有良好外觀形態和溶解性的菊花晶和金銀花晶具有較強的市場競爭力。

簡介：本發明提供一種超晶格結構的納米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制備方法,屬于材料表面技術領域。本發明該超硬膜是由電弧離子鍍的納米晶體相Cr2N和磁控濺射鍍的非晶體相WC層交替沉積而成,并且,超晶格的調制周期為10～20nm,Cr2N單層和WC單層的厚度分別為8～14nm和2～6nm。本發明的優點在于:Cr2N層與WC層交替分布實現了Cr-N基膜成分多元化和結構多層化,解決了抗氧化性較強的Cr-N基膜獲得超高硬度的難題,同時非晶WC層進一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蝕性能,滿足不能熱處理的

本項目開發了一種全新概念的納米陶瓷制備新工藝新技術。它采用天然礦物和工業廢渣來取代高溫燒結法中昂貴的納米陶瓷粉末，使制備成本大幅降低。用高溫溶膠－凝膠工藝從根本上解決了材料組成的不均勻性和殘留氣孔等問題，同時具有生產周期短、效率高、能耗低、制品的均勻性和可靠性好等優點。開發的原位受控晶化技術不僅使材料的晶粒尺寸控制在納米級，而且還可對晶相數量和結晶形狀進行有效控制，可獲得具有球狀或針狀晶體的納米微晶陶瓷。

電路是以晶圓為載體，采用一定的工藝，把電路中的元器件和布線制作在晶圓片上，封裝為 一個整體，使晶圓上每個晶粒成為具有所需電路功能的微型結構。晶圓切割的過程是將集成有 電路的整片晶圓通過劃切分割成單個的晶粒，切割過程又是一種無法恢復的過程，因此，材料 和制造成本的積累以及工藝的不可重復性決定了切割工藝成為整個集成電路制造過程中最關鍵 和難度最大的工藝環節。 精密機械：可加工的晶圓最小直徑可達50mm，在晶圓里面印刷有晶格，每個晶格的寬度 為200μm，晶格間距約為20μm，所以設備的切割精度要求控制在2μm以內，每小時切割15片。 運動平臺采用高精度的直線電機平臺，定位精度為2μm，重復定位精度為1μm；旋轉平臺的定 位精度為30″，重復定位精度為4″。 計算機自動控制：劃片機系統將根據客戶要求以及配合視覺檢測系統傳輸的晶圓數據，自 動生成切割路徑，在規定的工作時間內完成晶圓的切割。

本項目開發了一種全新概念的納米陶瓷制備新工藝新技術。它采用天然礦物和工業廢渣來取代高溫燒結法中昂貴的納米陶瓷粉末，使制備成本大幅降低。用高溫溶膠－凝膠工藝從根本上解決了材料組成的不均勻性和殘留氣孔等問題，同時具有生產周期短、效率高、能耗低、制品的均勻性和可靠性好等優點。開發的原位受控晶化技術不僅使材料的晶粒尺寸控制在納米級，而且還可對晶相數量和結晶形狀進行有效控制，可獲得具有球狀或針狀晶體的納米微晶陶瓷。

本項目以溶膠凝膠技術為基礎，輔以其他技術手段，在技術及產品質量指 標上完全達到了世界上最先進的諾頓（法國圣戈班）、3M 公司的水平，實現工 業化生產后，可以打破國外的技術封鎖和產品壟斷，并解決國內關鍵加工行業 受國外制約的困難，從而提升國內整體的機械加工水平。

提出并制備了非線性光學準晶超構表面，并研究了超構單元局域對稱性和排布方式的全局對稱性對超構表面遠場非線性光輻射的共同影響。該非線性光學準晶超構表面運用了基于非線性光學貝里幾何相位的金屬等離激元結構單元，依據經典的彭羅斯準周期拼接和具有六重對稱性的六角準周期拼接形成了不同種類的準晶結構。彭羅斯結構的準周期拼接具有五重對稱性，其衍射圖案則具有十重對稱性，這些都是晶體衍射定理所不允許的對稱性。而六角準周期拼接是2017年提出的一種準周期拼接，它具有晶體衍射定理所允許的六重對稱性，卻并不遵從短程有序的規律。這兩種拼接方式可以與某些特定的比例聯系起來，這些比例由不同階次的迭代規則決定：彭羅斯結構對應一階迭代過程，其比例是人們熟知的“黃金分割比”，而六角準周期晶格對應三階過程，其比例可稱為“黃銅分割比”。自六角準周期晶格從理論上提出以來，本項工作中的非線性光學準晶超構表面是首個利用黃銅分割比實驗實現的人工光學結構。? 非線性光學準晶超構表面中不同轉向的超構單元對入射基頻光的響應是均勻的，因此其線性光學衍射僅能反映超構表面的全局對稱性，即晶格結構決定其遠場光衍射。而在倍頻實驗中，即出射光的頻率是入射光的兩倍（如1200nm 變為600nm）。由于打破了超構單元的中心反演對稱性并引入了非線性光學幾何相位，其非線性光學衍射與晶格結構的局域對稱性、全局對稱性同時相關。因此，可以通過調控超構單元的指向分布，進而有效地調控倍頻光衍射中的零級。非線性光學準晶超構表面這一概念或將為設計超構表面非線性光源、人工微納光學結構材料提供新的思路。