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成果與項目的背景及主要用途： 近年來海水淡化技術的快速發展及其成本的大幅降低，使越來越多的國家和 地區開始考慮利用淡化水作為第二水源，以緩解日益嚴峻的淡水危機。目前可用 于工業規模的海水淡化方法反滲透技術的發展速度最快，成本的降幅也最大。其 原因主要在于膜性能的不斷提高和高效能量回收裝置的廣泛使用。 能量回收裝置作為反滲透海水淡化系統的必備設備之一，對大幅降低淡化系 統的運行能耗，進而降低產水成本至關重要。正位移式能量回收裝置近年來備受 市場青睞，其產品市場占有率也呈逐年快速增長的發展趨勢，淡化系統本體噸水 電耗也由 80 年代的 8.0 kWh 降低到約 2.0kWh。 技術原理與工藝流程簡介： 按照工作原理的不同，能量回收裝置可分為水力透平式（或離心式）和正位 移式兩種類型。水力透平式運行時通常需要經過“壓力能-軸功-壓力能”兩步轉化 過程，能量回收效率相對較低，為 50-75%。而正位移式則利用濃鹽水直接增壓 進料海水的方式回收壓力能，效率高達 90%-96%。此外，正位移式能量回收裝 置使用過程中還具有根據運行需要靈活調節淡化系統的產水回收率的特點。“閥 控余壓能量回收裝置”采用正位移式工作原理，集成式水壓缸和閥組相結合來實 現反滲透海水淡化系統排放濃鹽水余壓能的回收利用。能量回收裝置采用 PLC 控制，易于與上位系統相耦合，控制精度和可調性都很好。 技術水平及專利與獲獎情況： 該項目經國家海洋局鑒定驗收（國海鑒字[2004]003 號），認為該成果達到 國際先進水平。該技術已于 2004 年 7 月 7 日獲準國家發明專利（授權公告號 CN 1156334C）。 應用前景分析及效益預測： 能量回收裝置由于具有較高的能量回收效率，已經逐漸成為海水淡化行業中 研究和開發的熱點，其產品市場占有率也呈逐年快速增長的發展趨勢，近年來國 內海水淡化工程大多采用美國 ERI 公司的 PX 能量回收裝置。我國在 SWRO 能 量回收技術方面的研發起步較晚，發展比較遲緩，裝置形式較單一，大都局限于 雙液壓缸功交換式，整體水平同國際先進技術還有很大的差距，但工業化發展及 應用前景較好。隨著我國淡水資源的日益缺乏，反滲透海水淡化工程必將大力發 展，因而研究開發具有自主知識產權的能量回收裝置具有深遠的意義。 閥控余壓能量回收裝置具有與國外同類產品相當的性能指標，其生產成本可 比國外產品降低 1/3~1/2，是反滲透海水（或苦咸水）淡化系統必備的關鍵設備 之一，市場前景廣闊，經濟效益巨大。 應用領域： 該裝置可廣泛應用于反滲透海水（或苦咸水）淡化系統和工業反滲透系統等 水處理領域和有關化工工業（如合成氨工業）中需要回收液體壓力能的場合。 合作方式及條件： 以技術合作的方式開發新型反滲透海水淡化能量回收裝置系列產品。 34 海洋島礁供水系統

成果描述：在α-Al2O3、TiO2介孔膜上接枝或接枝聚合一層薄的具有特殊功能的，諸如疏水的、親水的、荷負電納米孔的或者荷負電納米孔的活性過濾膜，從而制備出特定工藝專用的膜，如脫水膜、膜蒸餾膜，超濾膜和納濾膜，可廣泛應用于醇類的除水，海水和苦咸水淡化，難分離污水的脫水，酸的濃縮，給水的軟化，廢水處理的中水回用等領域。另外，由α-Al2O3和TiO2制備的各種大孔和介孔膜可被廣泛應用于苛性介質如酸和堿中的顆粒雜質去除工藝。 流體機械密封端面變形、傳熱和密封端面間隙流場的研究，考慮流體流動、熱量傳遞和端面變形之間的相互影響，并提供機械密封和干氣密封的通用設計軟件。市場前景分析：環保領域：煙氣脫硫硫酸的凈化過濾與濃縮，污水處理的中水回用，MBR，難分離、有毒有害和放射性廢水的處理。 其它領域：給水的軟化，海水和苦咸水淡化，無加熱源的吸收式制冷空調系統，有機物的分離。與同類成果相比的優勢分析：1.疏水膜表面接觸角大于130°，平均孔徑0.5微米； 2.親水膜的水滲透蒸發通量大于610 g m-2 h-1，選擇性大于139； 3.荷電納濾復合膜的通量大于2.6 L m-2 h-1 bar-1，對二價離子的截留率大于90%； 4.超濾陶瓷膜的截留分子量在7,000～100,000范圍可任意選定； 5.微濾陶瓷膜的孔徑在0.1～3微米之間可調。 國際先進

本發明公開了一種通過膜側種植方法防除苜蓿田間雜草的技術。使用該技術可以有效控制苜蓿田雜草的蓋度，使苜蓿田的蓋度降低21?46％；同時大幅提高當年的苜蓿干草產量，提高幅度19.8％?152.6％。可以使每公頃3年總的產量增加9387.6?9438.4kg，按每噸價格2400元計算，可以使每公頃增加經濟效益22530?22652元，折合每畝增效1502?1510元。同時降低了除草劑的使用量，減少了對環境的污染，可以有效促進苜蓿產業的低環境消耗生產的目標。

本發明公開了一種適用于陶瓷PTC裝配技術的卷膜裝置。四個推桿組分別為上豎直推桿組、下豎直推桿組、上水平推桿組和下水平推桿組，機架上面板和機架下面板的四角之間均通過面板撐桿固定支撐連接，上豎直推桿組安裝在機架上面板頂面中心，上水平推桿組安裝在機架上面板頂面的一側，下豎直推桿組安裝在機架下面板頂面中心，下水平推桿組安裝在機架下面板頂面與上水平推桿組相反的一側，發熱芯位于上豎直推桿組和下豎直推桿組之間，四個推桿組按固定順序運動，將薄膜全部卷在發熱芯上。本發明采用自動卷膜技術，相比手工卷膜技術，極大提高了生產效率并使產品規格統一。

制備對可見光透過良好，而對紫外線和紅外線有優良的阻隔作用，并且價格低廉，易于加工的建筑用或車用太陽膜是非常有應用價值和實際意義的。現今市場上的太陽膜，一般是采用沉積或濺射的方法在聚合物薄膜或直接在玻璃上沉積制備的一層或多層金屬或金屬氧化物，主要利用金屬膜或金屬氧化物膜對紅外線進行吸收和反射。但由于這種方法所需設備復雜昂貴，而且填充的金屬及金屬氧化物的成本也不低廉，所以制備低成本且性能優良的太陽膜成為一種需求。本項目采用價廉易得的炭黑作為填充物，與聚合物復合制備太陽膜。炭黑作為一種典型的吸光物質，對紫外線和紅外線有很強的吸收特性，但炭黑易團聚，在聚合物基體中不易分散，造成薄膜不同區域可見光和紫外線及紅外線的透過率差異很大，另外炭黑粒子的分布不均，也會造成成膜性能差，薄膜韌性不能達到應用要求。本項目首先通過對炭黑進行改性，改善其在聚合物基體中的分散，并使改性炭黑粒子的尺寸遠小于可見光的波長，粒子和基體的折射率盡量匹配，從而減小粒子填充的體積份數。炭黑經過改性后，其填充的聚合物復合薄膜將具有較好的透明性，同時又能在一定程度保持對紫外線和紅外線的強吸收特性,使這種復合薄膜作為太陽膜使用成為一種可能。本項目詳細研究了改性炭黑在基體中的分散狀況，并對復合薄膜的光學特性進行了重點研究, 解決可見光透過率與紅外線阻隔這一對矛盾，從而制備符合太陽膜性能要求的新型復合薄膜。另外，制備復合薄膜的方法簡單，操作時無需復雜昂貴的設備，因此應用前景廣闊。

研發階段/n仿生型膜通過在普通的白色薄膜中添加轉光劑，使陽光中對作物無用的紫外光轉變為對作物生長有利的藍紫光（430nm-480nm）及紅光（630nm-680nm），從而促進作物生長速度的提高和產量的增加。由于仿生型膜能將陽光中的能量較高的紫外光轉變為能量相對較低的藍紫光，因此，用仿生型膜包裝水果、蔬菜等綠色食品，可起到保護水果、蔬菜的功效。在甜玉米、黃瓜、轉基因番茄、棉花營養體上進行田間應用實驗，均提高了苗期生長速度，作物開花結果提前3-15天左右，作物產量提高5-10%左右；在番茄、甜玉米、黃

【發 明 人】潘林梅；郭立瑋；黃敏燕；朱華旭；倪荷芳【技術領域】 本發明涉及一種膜清洗劑，特別涉及一種適用于陶瓷膜微濾中藥液體制劑的清洗劑。【摘要】一種陶瓷膜清洗劑，其特征在于包括下列組分，各組分按質量份配比為：氫氧化鈉50-60質量份、氫氧化鈣20-30質量份、次氯酸鈉5-10質量份、十二烷基苯磺酸鈉5-I0質量份、四硼酸鈉l-5質量份、硅酸鈉質量l -10份、甲基纖維素1-5質量份。清洗劑制備簡便，清洗效果甚佳。對中藥液體制劑適用性強，降低了膜的清洗頻率。無需拆卸膜管，清洗方便易行。膜通量恢復迅速，大大縮短了清洗時間，降低了系統的能耗。膜管損害小，不影響膜管的使用壽命。避免清洗劑造成的二次污染，加速系統的再生。

1. 項目背景（1）隨著經濟的不斷發展以及國家對環境保護問題的日益重視，污水排放要求越來越嚴格，而傳統的處理方法不能滿足日趨嚴格的排放要求，膜技術幾乎能將所有的微生物截流在

本實用新型涉及一種光能驅動靜電水膜空氣凈化裝置，屬于家用電器領域。從上到下包括頂殼、收 塵區、底殼，所述頂殼上表面有進氣口，太陽能電池板，內部有機電中樞和電機，電機通過中央軸帶動 渦輪風扇，在電機下面的兩側設置高壓電極，所述機電中樞內設蓄電池和單片機，控制高壓電極和電機， 所述渦輪風扇邊緣還有蓄水池;收塵區由外筒與金屬內筒構成，外筒和金屬內筒由絕緣的支架連接，內 筒與中央軸下端通電形成電場;底殼內

光掩膜版(又稱光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中實現設計圖形轉移的載體，是決定其微細結構和線寬精度的核心材料和工具。 目前中國半導體掩膜版的國產化率10%左右，90%需要進口，高端掩膜版國產化率3%，miniLED和microLED產業升級也需要更多高端掩膜版。隨著中國市場需求的持續提升，掩膜版產能嚴重不足。并且中國半導體掩膜版的產業起步較晚，技術滯后，核心技術和裝備基本讓國外公司壟斷，特別是在設備、材料領域眾多技術處于“卡脖子”狀態，例如掩膜版制造的核心裝備光刻機、檢測機、測量機、修復機和貼膜機等都依賴進口，嚴重制約中國半導體產業的發展。華中科技大學徐智謀教授團隊致力于全套高端半導體光掩膜版的關鍵核心技術研發與量產，為“卡脖子”技術研究而努力。 具有建立180 nm技術節點半導體掩膜版量產線相關核心技術；具備130 nm至28 nm半導體掩膜版研發、設計及驗證能力。主要研究成果如下： 1） 工藝突破 團隊掌握了掩膜版MEMS微納加工量產核心技術，如電子束光刻、激光光刻和納米壓印光刻等MEMS微納加工工藝的各類技術參數的搭配和優化，以及大數據量軟件快速處理、補償等。 2） 裝備國產化 A. 超高精度二維測量裝備 尺寸測量是驗證掩膜版技術指標的核心，主要包括關鍵尺寸測量(CD)和長尺寸測量(TP)。團隊已掌握掩膜版的關鍵測量技術，達到國內先進水平，具有整套設備的整機制造能力。 TP測量是掩膜版制作的核心指標，直接影響到客戶的套合精度，該測量設備一直由國外極少數廠商壟斷，且價格昂貴，一般在1000萬美元以上，高端限制對中國出口。團隊目前正在攻克該項技術，已取得階段性成果。 B. 缺陷修復裝備 掩膜版修補技術是提升良品率的關鍵手段，該技術一直為國外壟斷。團隊已熟練掌握UV、DUV激光化學沉積技術及皮秒飛秒激光金屬處理技術，具備整機制造能力，可降低設備采購成本70%以上。 C. Pellicle自動貼膜裝備 隨著產品精度的提升和應用領域的高端化，掩膜版貼膜是個不可缺少的重要環節。在IC制造領域100%掩膜版需貼Pellicle，在IC封裝領域90%以上需貼膜，在LED領域80%以上需貼膜。該貼膜設備一直國外公司壟斷，國內廠家沒有提供，國外采購全自動貼膜設備需100萬美元左右。團隊具備研發制造該設備的能力，貼膜精度±0.1mm,且有設備正式在產線運營，制造成本可節約90%以上。 3） 廠房建設關鍵技術 團隊對MEMS及其掩膜工廠工藝設備廠務設計有豐富經驗，掌握高等級防微震廠房結構和設備平臺的設計施工，可達到VC-D級技術標準，滿足納米級生產技術要求。 【技術優勢】 （1）掌握了高性價比掩膜版量產的關鍵核心技術，包括部分裝備的國產化，解決“卡脖子”技術難題，量產線建設成本節約30%以上； （2）具備28 nm及以下技術節點掩膜版設計開發能力和驗證平臺，驗證周期可縮短3倍； （3）擁有一支20多年以上掩膜版量產、研發和銷售經驗的隊伍，成熟的企業管理經驗，保證企業穩步成長，確保投資風險可控。 【合作方式】 股權投資合作共建或政府孵化+中試線。