新葡京娱乐场-大陆娱乐场开户注册

JNC 數(shù)控系統(tǒng)是基于 PC 的數(shù)控系統(tǒng)，開放式體式結構，內置進口嵌入式工業(yè)微機，可 靠性高 64 位處理器，256 內存， 8.4＇真彩液晶顯示，全中文界面。國際 ISO 標準代碼編 程，仿 FANUC 編程海量存儲(標配 256M 存儲盤)，與流行的 CAD/CAM 軟件兼容，更適合復雜 模具零件的 CAD/CAM 加工。具有圖形模擬、自動加工、MDI、JOG、手輪、I/O 診斷及 I/O 自 定義（24 組）、斷電保存、比例縮放、坐標系旋轉、鏡象功能等功能。系統(tǒng)多 CPU 同時工作， 多組坐標系設定，多組自定義開關量控制. 公英制螺紋切削，位置/計時/計件顯示. 直線、 圓弧插補；單段與連續(xù)任意切換. 加工過程子程序調用、固定循環(huán)、參數(shù)編程；刀具長度、 半徑補償、間隙補償?shù)? 加工過程錯誤提示;系統(tǒng)故障診斷與報警功能. U 盤接口、RS23242 通訊接口。

產品詳細介紹 調溫磁力電熱套特點：1.采用電熱套加熱，具有受熱面積大、均勻、升溫快的特點，表面最高溫度可達到380℃。2.可對50-20000ml標準或非標準反應瓶進行加熱攪拌。3.采用德國PAPST系列直流無刷電機，性能穩(wěn)定，噪音小，壽命長，無火花產生。4.外殼采用一次性形成阻燃加強PBT注塑外殼，耐高溫，防腐蝕，且絕緣性能好。5.30°斜面操控面板適合坐位和站位視角。6.無極調速，低速平穩(wěn)，高速強勁。7.內置電子調壓線路，可控硅控制。調溫磁力電熱套使用方法：1.將立桿固定在攪拌器后上方螺絲孔內，調整好十字夾高度，用萬能夾將反應瓶固定好，放入合適攪拌子，插入電源～220∨，打開開關。2.順時針調整“攪拌”旋鈕，根據(jù)轉速顯示調至適合位置進行攪拌。3.如攪拌容量大或粘稠溶液時，可適當上調旋鈕以增加攪拌力度。4.順時針調整調溫旋鈕，根據(jù)需要調至適合位置進行加熱攪拌。5.如需顯示溫度時可用玻璃溫度計或數(shù)顯溫度計進行輔助測量。注意事項：1.為保證安全使用請務接地線。2.為延長產品的使用，所有磁力攪拌器的電機均帶有風扇散熱功能，故作加熱實驗時特別是高溫加熱試驗時，該儀器不能單做加熱使用，務將電機調至旋轉或中速旋轉狀態(tài)（或空轉），以防止電機、電器受高溫輻射而損壞。如電機不能啟動旋轉，應及時找經(jīng)銷商予以維修，否則不按要求操作造成損壞或損失，不予負責。3.加熱部分溫度較高，工作時需小心，以免燙傷。  4.有濕手，液體溢出，或長期置于濕度過高條件下出現(xiàn)的漏電現(xiàn)象，應及時烘干或自然曬干后再用，以免發(fā)生危險。5.第一次使用時，套內有白煙和異味冒出，顏色由白色變?yōu)楹稚僮兂砂咨珜儆谡，F(xiàn)象，因玻璃纖維在生產過程中含有油質及其他化合物，應放在通風處，數(shù)分鐘消失后即可正常使用。6.3000ml以上電熱套使用時有吱-吱響聲是爐絲結構不同及與可控硅調壓脈沖信號有關，可放心使用。7.液體溢入套內時，請迅速關閉電源，將電熱套放在通風處，待干燥后方可使用，以免漏電或電器短路發(fā)生危險。8.長期不用時，請將電熱套放在干燥無腐蝕氣體處保存。9.請不要空套取暖或干燒。10.環(huán)境濕度相對過大時，可能會有感應電透過保溫層傳至外殼，請務接地線，以免漏電，并注意通風。11.相對濕度：35％-85％（無冷凝）。12.保險管Φ5×20 15A。若因產品或此說明書所涉及的產品因改良而至此說明書的內容有異時，恕不另行通知。100ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速  電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 130W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 100ml水7—12分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 50-100ml 外形尺寸 260*155*155mm 包裝尺寸 310*205*205mm 重 量 2500g±50g 工作時間 連續(xù) 250ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 216W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 250ml水7—12分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 250ml 外形尺寸 260*155*155mm 包裝尺寸 310*205*205mm 重 量 2500g±50g 工作時間 連續(xù) 500ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 230W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 500ml水7—12分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 500ml 外形尺寸 260*155*155mm 包裝尺寸 310*205*205mm 重 量 2600g±50g 工作時間 連續(xù) 1000ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 530W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 1000ml水7—12分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 1000ml 外形尺寸 325*215*175mm 包裝尺寸 375*265*225mm 重 量 2800g±100g 工作時間 連續(xù) 2000ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 650W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 2000ml水10—15分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 2000ml 外形尺寸 430*270*305mm 包裝尺寸 480*320*355mm 重 量 3000g±100g 工作時間 連續(xù) 3000ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 730W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 3000ml水10—15分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 3000ml 外形尺寸 430*270*305mm 包裝尺寸 480*320*355mm 重 量 3200g±100g 工作時間 連續(xù) 5000ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 1100W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 5000ml水15—20分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 5000ml 外形尺寸 500*330*305mm 包裝尺寸 550*380*355mm 重 量 3500g±200g 工作時間 連續(xù) 10000ml TWCL—T調溫磁力攪拌(電熱套)攪拌器 技術參數(shù)：電 源 ～220∨，50Hz 調速范圍 50-1800轉/分,無極調速 電機功率 電機40W，DC14-24V 加熱功率 2100W 控溫精度 ±3℃，可控硅控制 加熱溫度 表面溫度最高380℃ 沸 騰 10000ml水20—25分鐘 爐 絲 Cr20Ni80 絕 緣 層 無堿玻璃纖維，可耐溫450度 絕緣系數(shù) 相對濕度≤35%時≥500兆 保 溫 層 獨家采用硅酸鋁棉真空定型環(huán)保保溫體 攪拌容量 10000ml 外形尺寸 500*330*305mm 包裝尺寸 550*380*355mm 重 量 4500g±300g 工作時間 連續(xù)

產品詳細介紹  T300 產品特色 精心設計之『快速鍵無線演示器』，本產品結合雷射光筆、無線鼠標、PowerPoint演示快捷鍵(Shortcuts) 讓您輕松掌控演示，充分展現(xiàn)您的專業(yè)及品味。快速鍵的設計.無需多學習,便可使用上手. l           高頻率連結:使用2.4GHz頻率波段，可自動搜尋16個頻道，65535組ID ，避免干擾 l           超長遙控距離:室內有效距離30公尺內，開放空間有效距離可達100公尺 l           無須軟件安裝:不需安裝任何軟件或驅動程序即可開始使用 l          雷射指示點:可操作雷射指示點的開關，避免幼兒隨意玩耍使用 l           內凹式的鼠標的控制鍵,使用更順暢. 低電量指示燈.提醒將需要更換電池.. 產品規(guī)格 產品型號 12-HPT300WH 使用頻率 2400~2483MHz 遙控距離 室內約30公尺；開放空間約100公尺 工作電壓 遙控功能：2.4V~3.3V；雷射功能：2.6V~3.3V 電源供應 七號電池(AAA)*2 輸出功率 小于1mW 重量 無線演示器(含電池)：63公克 無線接收器：2.6公克 環(huán)境 溫度：操作時：0℃(32℉)~60℃(140℉) ,非操作時：-10℃(14℉)~65℃(149℉) 濕度(非冷凝狀態(tài))：操作時10%~85% RH ,非操作時10%~95% RH 雷射 連續(xù)式半導體雷射(λ= 650 nm) 雷射最大輸出功率：0.95 mW 系統(tǒng)需求Windows? 98 SE, Me, 2000, XP ,VISTA ,MAC OS 9.1 以上版本    

產品詳細介紹RNF方形--螺旋升降器1、RNF系列共有11 個型號：分別為RNF016、RNF018、RNF020、RNF030、RNF040、RNF055、RNF060、RNF070、RNF080、RNF100和RNF120；2、傳動速度有兩種速比對應兩種速度，分別為快速（字母N代表）與慢速（字母L代表），在N速度下，輸入蝸桿每轉一圈，絲桿升降1mm，當輸入轉數(shù)為1500RPM時，絲桿升降速度為1500mm/min，在L速度下,輸入蝸桿每轉一圈，絲桿升降0.25mm，即當輸入轉數(shù)為1500RPM時，絲桿升降速度為375mm/min。如該系列產品配滾珠絲桿，則定為RNFK與之區(qū)分。配滾珠絲桿的速度，取決于蝸輪蝸桿的速比與滾珠絲桿的導程大小。若要使用更高速的升降器,建議用戶選用我司研發(fā)的RNS系列。其速度最快可達12000mm/min。請參考RNS系列參數(shù)。3、公差與背隙   （1）RNF升降器殼體為長方體，上下安裝面和左右兩側都進行了平面水平加工，符合安裝標準。    （2）梯形絲桿的軸向間隙可達0.15mm，徑向間隙0.2mm，絲桿外徑與導向套直徑之間的游離間隙為0.2mm，滾珠絲桿的間隙取決于使用不同精度等級的絲桿。   （3）蝸輪蝸桿背隙，N速度下蝸桿輸入軸背隙為正負3度，L速度下，蝸桿輸入軸背隙為正負5度。4、側向力：升降器僅用于與機座安裝面垂直升降作用于傳動負載，原則上不允許受側向力。任何大小的側向力都會影響升降器的壽命。甚至直接給升降器有致命的打擊。在使用中，建議用戶將任何可能出現(xiàn)的側向力由外部導軌或導柱承受。5、自鎖性：RNF系列升降器內部為蝸輪蝸桿結構，具有自鎖功能。自鎖性能主要限決于升降器螺桿導程大小和蝸輪蝸桿傳動比、潤滑作用以及安裝使用環(huán)境的溫度、振動力大小和安裝位置的影響。使用大導程或雙導程絲桿以及滾珠絲桿，在慣性作用下，其絲桿自鎖性能較差或幾乎無自鎖功能。因此在該種情況下，建議用戶配剎車電機或輸入軸加裝剎車。6、螺桿防旋轉裝置：單臺使用時，升降負載無導軌或導柱時，絲桿會產生旋轉而不升降，特別是輕負載時，只會原位置旋轉，達不到升降目的。此時

5T/H反滲透純水設備 水處理設備 優(yōu)質反滲透水處理設備廠家供應經(jīng)濟型反滲透純水設備一般自來水經(jīng)一級反滲透系統(tǒng)處理后，產水電導率＜10μS/cm，經(jīng)二級反滲透系統(tǒng)后產水電導率＜5μS/cm甚至更低，在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設備或EDI設備可以制備超純水，使電阻率達到18兆歐姆(電導率=1/電阻率)是反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般常指水）通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來與滲透方向相反，可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍。經(jīng)濟型反滲透純水設備 1、工業(yè)反滲透基本原理5T/H反滲透純水設備 水處理設備 優(yōu)質反滲透水處理設備廠家供應5T/H反滲透純水設備 水處理設備 優(yōu)質反滲透水處理設備廠家供應 當純水和鹽水被理想半透膜隔開，理想半透膜只允許水通過而阻止鹽通過，此時膜純水側的水會自發(fā)地通過半透膜流入鹽水一側，這種現(xiàn)象稱為滲透，若在膜的鹽水側施加壓力，那么水的自發(fā)流動將受到抑制而減慢，當施加的壓力達到某一數(shù)值時，水通過膜的凈流量等于零，這個壓力稱為滲透壓力，當施加在膜鹽水側的壓力大于滲透壓力時，水的流向就會逆轉，此時，鹽水中的水將流入純水側，上述現(xiàn)象就是水的反滲透（RO）處理的基本原理。經(jīng)濟型反滲透純水設備 2、工業(yè)反滲透簡介經(jīng)濟型反滲透純水設備 RO（Reverse Osmosis）反滲透技術是利用壓力表差為動力的膜分離過濾技術，源于美國二十世紀六十年代宇航科技的研究，后逐漸轉化為民用，目前已廣泛運用于科研、醫(yī)藥、食品、飲料、海水淡化等領域。 RO反滲透膜孔徑小至納米級（1納米=10-9米），在一定的壓力下，H2O分子可以通過RO膜，而源水中的無機鹽、重金屬離子、有機物、膠體、細菌、病毒等雜質無法通過RO膜，從而使可以透過的純水和無法透過的濃縮水嚴格區(qū)分開來。5T/H反滲透純水設備 水處理設備 優(yōu)質反滲透水處理設備廠家供應 RO膜過濾后的純水電導率5 s/cm,符合國家實驗室三級用水標準。再經(jīng)過原子級離子交換柱循環(huán)過濾，出水電阻率可以達到18.2M .cm，超過國家實驗室一級用水標準（GB682—92）。 3、滲透預處理目的及考慮因素--經(jīng)濟型反滲透純水設備 使用反滲透系統(tǒng)時，尤其應注意原水預處理。為了避免堵塞反滲透系統(tǒng)，原水應經(jīng)預處理以消除水中的懸浮物，降低水的濁度；此外，還應進行殺菌以防微生物的孽生長大。 由于反滲透對原水中的懸浮物的要求很高，所以常用一種水質對受懸浮物污染情況的污染指數(shù)來對水質進行檢測。此法實質上是測定反滲透系統(tǒng)受水中懸浮物的污堵的情況。進入反滲透系統(tǒng)水的污染指數(shù)以不大于5為宜，建議值一般小于3。預處理時還應該考慮到進水的pH值。各種半透膜都有其最適宜的運行pH值，故需按反滲透膜的要求，調節(jié)進水的pH值。預處理時還應該考慮到進水的溫度。膜的透水量是隨水溫的增高而增大的，但溫度過高會加快醋酸纖維素膜的水解速度，且使有機膜變軟，易于壓實。所以，對于有機膜來說，通常將溫度控制在約20—40℃范圍內為宜，復合膜溫度控制在約5—45℃范圍內為宜。經(jīng)濟型反滲透純水設備 反滲透膜分離技術是利用反滲透膜原理進行分離的，具體特點如下： 1、在常溫不發(fā)生相變的條件下，可以對溶質和水進行分離，適用于對熱敏感物質的分離、濃縮，并且與有相變化的分離方法相比，能耗較低。 2、反滲透膜分離技術雜質去除范圍廣。 3、較高的脫鹽率和水回用率，可截留粒徑幾個納米以上的溶質。 4、利用低壓作為膜分離動力，因此分離裝置簡單，操作、維護和自控簡便，現(xiàn)場安全衛(wèi)生。 5T/H反滲透純水設備 水處理設備 優(yōu)質反滲透水處理設備廠家供應應用領域： （1）電力工業(yè)：鍋爐補給水、冷卻水壩； （2）電子工業(yè)：半導體工業(yè)超純水、集成電路清洗用水、配方用水； （3）食品工業(yè)：配方用水、生產用水； （4）制藥行業(yè)：工藝用水、制劑用水、洗滌用水、注射用水、無菌水制備； （5）飲料工業(yè)：配方用水、生產用水、洗滌用水； （6）化學工業(yè)：生產用水、廢水處理； （7）飲水工程：超純水制備、飲用水凈化； （8）石油化工：油田注入水、石化廢水深度處理； （9）海水淡化：海島地區(qū)、沿海缺水地區(qū)、船舶、海水油田等生產生活用水； （10）環(huán)保領域：電鍍漂洗水中貴重金屬、水的回收，實現(xiàn)零排放或微排放。 5T/H反滲透純水設備 水處理設備 優(yōu)質反滲透水處理設備廠家供應系統(tǒng)優(yōu)點： 反滲透(RO)技術是一種高效節(jié)能技術。它依靠壓力推動將水和離子分離，從而達到純化和濃縮的目的。該過程無相變，一般不需加熱，能耗低，具有運行成本低，無污染，操作方便運行可靠，產水水質高等諸多優(yōu)點，而成為海水和苦咸水淡化最節(jié)能的技術。目前已廣泛應用于醫(yī)藥、電子、化工、食品、海水淡化等諸多行業(yè)。反滲透技術已成為現(xiàn)代工業(yè)中首選的水處理技術。反滲透(RO)技術成為膜分離技術的一個重要組成部分。 （1）可以從海水或苦咸水中提取淡水； （2）容易去除有機物、細菌和膠體及溶于水中的其它雜質，獲得高純度的水； （3）由于反滲透過程是一個物理過程，沒有相變，因而節(jié)能； （4）操作簡單，易實現(xiàn)自動化，節(jié)省勞力； （5）結構緊湊，占地小，從而降低費用； （6）作為一種濃縮方法，能回收溶解在溶液中有價值的成份。

產品詳細介紹HP-8001T 教師繪圖辦公桌（含豪華升降轉椅）是高校常用的教師制圖桌椅，采用鋼框（支）架，桌面可調節(jié)傾角結構，結合繪圖和辦公的需求定制的繪圖室專用教室繪圖辦公桌。 　　請和本公司技術QQ:268008426 聯(lián)系可選配置： （1）HPT90 90cm惠普優(yōu)質有機玻璃丁字尺 （2）HPM01 90*60cm一號惠普優(yōu)質椴木繪圖板 （3）HP252 精密惠普組合繪圖儀器（16件一套） （4）25cm曲線板 （5）大圓弧模板 （6）畫圓模板 （7）三棱比例尺 （8）多功能模板 （9） 英雄81A-212繪圖筆一套 （10）HPMX55 55件套速成制圖模型 （11）制圖基本技能掛圖（一套16張） （12）滑動轉椅（一張）

產品詳細介紹 　　產品概述 　　多功能教學終端T2，領先理念與先進技術的高度融合，創(chuàng)新性地將高端中控、錄播、視頻會議和音頻處理模塊集于一體。一臺主機，可滿足多媒體教室、錄播教室、網(wǎng)絡教研室和互動教室的綜合應用需求。它，是未來教室的不二之選。 　　翰博爾多功能教學終端T2，實現(xiàn)了中控系統(tǒng)、錄播系統(tǒng)、視頻會議系統(tǒng)和音頻處理器系統(tǒng)的高度融合應用，功能強大，業(yè)界首創(chuàng)。 　　 　　產品特點： 　　翰博爾多功能教學終端T2，實現(xiàn)了中控系統(tǒng)、錄播系統(tǒng)、視頻會議系統(tǒng)和音頻處理器系統(tǒng)的高度融合應用，功能強大，業(yè)界首創(chuàng)。 　　采用全嵌入式架構設計，具有超高的穩(wěn)定性和安全性，杜絕了病毒侵襲的風險，省去了繁瑣的設備維護，適合大規(guī)模常態(tài)化的視頻資源建設、管理和應用，又滿足遠程互動的需求。 　　區(qū)別于以往的中控設備，T2采用無線觸摸控制的方式對教室內的多媒體設備及教師PC進行控制，便于教師上課時的操作高效，該控制不單單對多媒體設備的控制，而更多的是對整體系統(tǒng)的控制。 強大 翰博爾多功能教學終端T2實現(xiàn)了中控系統(tǒng)、錄播系統(tǒng)、視頻會議系統(tǒng)和音頻處理器系統(tǒng)的高度融合應用，功能強大，業(yè)界首創(chuàng)，功能上乘。 安全 采用全嵌入式架構設計，具有超高的穩(wěn)定性和安全性，杜絕了病毒侵襲的風險，省去了繁瑣的設備維護，適合大規(guī)模常態(tài)化的視頻資源建設、管理和應用，又滿足遠程互動的需求。   易用 區(qū)別于以往的中控設備，T2采用無線觸摸控制的方式對教室內的多媒體設備及教師PC進行控制，便于教師上課時的操作高效，該控制不單單對多媒體設備的控制，而更多的是對整體系統(tǒng)的控制。   兼容 可兼容各種基于國際視頻標準協(xié)議的錄播、中控、監(jiān)控終端，滿足未來教室后期系統(tǒng)擴展的應用需求，同時可接入各種標準的攝像機。 清晰 系統(tǒng)結合數(shù)字音頻處理器降噪、混音、自動增益、回聲抑制的功能，可對教室聲音進行數(shù)字化處理，極大地隔離噪音，抑制回聲，錄制和互動的聲音清晰真實。 高清 未來教室一體化終端錄制的視頻輸入輸出均可達到1080P60，呈現(xiàn)全高清的現(xiàn)場原景，當遠程互動、網(wǎng)絡教研時猶如在現(xiàn)場般身臨其境。 豐富 錄制文件可自動生成兩分屏、三分屏、畫中畫和電影模式，滿足不同教育教學的應用需求。

雷美替胺是日本武田制藥公司開發(fā)的新作用靶點失眠癥治療藥物，2005年7月首次在美國上市，商品名：Rameheon，Rozerem；劑型：片劑（8mg/片）。雷美替胺是目前唯一上市的用于治療難入睡型失眠癥褪黑素受體激動劑，對慢性失眠和短期失眠也有確切療效；由于本品無依賴性和藥物濫用傾向，F(xiàn)DA將其列為不受管制的催眠藥物。 由于專利文獻報道的合成方法需多步高溫、高壓催化氫化反應，合成中還需采用不對稱催化氫化還原，所用原料價昂，回收不易，并且合成步驟較長（約18步反應），導致總收率很低，原料藥成本高。為此，本課題組發(fā)展了幾種全新合成路線，成功合成了高純度的雷美替胺（化學純度>99%，光學純度>99%），并使合成步驟大大簡化（約9~11步反應），革除了高溫、高壓操作，使氫化反應常壓即可進行，且所用化工原料均可在國內解決。所發(fā)現(xiàn)的新方法避免了武田公司專利方法---不對稱催化氫化存在的缺點，以及可能引起專利糾紛，其中一些關鍵中間體為未見文獻報道的新化合物。部分研究內容已申請中國發(fā)明專利三份，具有自主知識產權。