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產(chǎn)品詳細(xì)介紹 1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E （可接DVI、HDMI高清數(shù)字信號） 【產(chǎn)品簡介】 1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E是維視公司綜合技術(shù)應(yīng)用，依據(jù)市場導(dǎo)向，針對大屏幕邊緣融合、流媒體、多媒體錄播系統(tǒng)、大屏拼接、醫(yī)療以及科研、檢測等領(lǐng)域最新推出的新一代基于PCI-E Express X4總線作為數(shù)據(jù)存取通道，最大傳輸速度達(dá)到480MByte/s的雙通道高速DVI/HDMI接口高端圖像采集卡,除具有PCI-E X1接口采集卡的圖像還原更真實(shí)、色彩畫質(zhì)更細(xì)膩、過渡層次更好、采集范圍更廣、圖像細(xì)節(jié)損失更小等優(yōu)點(diǎn)外在1920*1200分辨率下雙路同時均可達(dá)到30FPS，具有幀率高、畫面流暢、相對VGA接口畫質(zhì)更好的顯著特點(diǎn)，該產(chǎn)品可采集PC機(jī)顯卡等圖形設(shè)備輸出的DVI/HDMI信號，還可采集非標(biāo)準(zhǔn)逐行RGB分量等圖像信號，適用于高精度、高分辨率的圖像采集、高清DVI/HDMII視頻圖像的存儲、編碼傳輸?shù)纫蟆? 【產(chǎn)品特點(diǎn)】 1、1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E采集信號接口：雙路DVI-I,可做到VGA、DVI、HDMI接口一卡解決； 2、 視頻支持DVI single link , DVI dual link; 3、 可采集計(jì)算機(jī)等圖形設(shè)備輸出的雙路VGA、DVI、HDMI接口信號、還可采集非標(biāo)準(zhǔn)雙路RGB分量以及Y/Pb/Pr等分量圖像信號; 4、1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E采用高端ADC芯片，使用高效Master DMA模式，圖像采集過程幾乎不占CPU資源，板載RAM內(nèi)存芯片作為圖像緩存; 5、 高精度數(shù)模轉(zhuǎn)換，可得到高分辨、高速度、高質(zhì)量的無損VGA圖像及DVI、HDMI數(shù)字圖像; 6、 支持硬件任意開窗，二級縮放，硬件翻轉(zhuǎn)； 7、 有類似內(nèi)存映射的功能，多個應(yīng)用程序/進(jìn)程可以共享其采集的圖像數(shù)據(jù)； 8、 1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E硬件控制幀率流量，可在實(shí)際使用中和其它采集卡配合，更有效提高帶寬的利用率； 9、 支持RGB32、RGB24、YUV422、RGB8等采集格式； 10、 亮度、飽和度、對比度多種參數(shù)可調(diào)節(jié); 11、 1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E 提供豐富的二次開發(fā)包； 12、 做工精良，全系采用環(huán)保材料以及部分進(jìn)口元器件，保證了產(chǎn)品的穩(wěn)定性。 【產(chǎn)品優(yōu)勢】 （一）、技術(shù)優(yōu)勢 1、 DVI/HDMI模式：1920*1200/30幀；1920×1080/30幀；1600×1200/30幀；1440×1050/30幀；1280×1024/30幀；1024×768/30幀；800×600/60幀，最高可采集1920*1200分辨率;  2、 雙路DVI/HDMI圖像采集卡MV-DVI420E VGA模式：分辨率可達(dá)2048*1536； 3、 HD模式：可采集1080P 、720P、586P、480P逐行數(shù)字信號; 4、 高點(diǎn)頻：直接采用高性能采集芯片，點(diǎn)頻可達(dá)220M，目前市場很少有廠家達(dá)到; 5、 高傳輸速率：采用PCI-E Express X4總線架構(gòu)設(shè)計(jì)，兼容X8、X16傳輸速率更高; 6、 高帶寬利用率：獨(dú)有的硬件帶寬利用技術(shù)，使PCI-E總線得到真正意義上的有效使用; 7、 Microvision自有技術(shù)，無信號時不藍(lán)屏、死機(jī); 8、 1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E 全自動行場頻檢測：具有全自動行場頻自適應(yīng)能力和信號自檢測能力，信源端信號的變化不需要用戶調(diào)節(jié)，完全適合無人值守應(yīng)用； 9、 采用標(biāo)準(zhǔn)的WDM、VFW驅(qū)動，支持標(biāo)準(zhǔn)的Directshow進(jìn)行開發(fā)，提供完整的二次開發(fā)包SDK。也可提供基于VC、VB、Delphi等的二次開發(fā)包演示程序和源代碼； 10、 1080P高清雙路DVI采集卡/雙路HDMI采集卡MV-DVI420E可使用微軟的AmCap, VidCap, Windows Media Encode, Window Movie Maker、第三方提供的LabView等應(yīng)用軟件； 11、 兼容性好：支持國內(nèi)大多數(shù)大多數(shù)視頻會議軟件、視頻監(jiān)控軟件、P2P采集端軟件、直播軟件。 （二）、綜合優(yōu)勢 1、 性價比高 產(chǎn)品均為維視自主開發(fā)，具有多年相關(guān)產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，掌握核心領(lǐng)域技術(shù)，合理靈活的市場定位及價格，高性能低價格有絕對優(yōu)勢，為用戶減少產(chǎn)品成本。 2、 產(chǎn)品服務(wù) 西安、北京、深圳、上海等地?fù)碛凶约旱姆止炯胺?wù)部，為產(chǎn)品銷售和維護(hù)提供保障，可提供強(qiáng)有力的技術(shù)支持，第一時間為客戶解決問題。 3、 性能穩(wěn)定 產(chǎn)品性能達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先水平，圖像行業(yè)多年的技術(shù)積累及市場考驗(yàn)使產(chǎn)品具有很高的穩(wěn)定性，故障率低，為客戶的售后維護(hù)減少成本。 4、 持久合作 用戶不必?fù)?dān)心產(chǎn)品的更新?lián)Q代所帶來的問題，我們會提供完善的解決升級方案，以解客戶后顧之憂。 【開發(fā)工具】 　　● 操作系統(tǒng)支持：Windows 2000、XP、win7、Vista。　　● SDK支持：VC、VB、Delphi。提供演示程序及演示程序源代碼！　　● 驅(qū)動支持：WDM、VFW、DirectX、OpenCV、Matlab、LabView、Halcon、MIL。 【應(yīng)用領(lǐng)域】　　1、教育課件錄制、多媒體錄播錄像、會議錄制、視頻會議，遠(yuǎn)程教育培訓(xùn)；　　2、大屏幕邊緣融合系統(tǒng)、大屏幕拼接、電視墻行業(yè)、虛擬演播室、虛擬現(xiàn)實(shí)、工控、游戲機(jī)等設(shè)備；　　3、安檢X光機(jī)、雷達(dá)圖像信號、VDR紀(jì)錄儀；　　4、醫(yī)療X光機(jī)、CT機(jī)、胃腸機(jī)等；

本項(xiàng)目發(fā)明了以三分之二匝線圈縱磁觸頭為代表的系列真空滅弧室觸頭新結(jié)構(gòu)和分合閘特性可控的彈簧、永磁操動機(jī)構(gòu)，研制開發(fā)了系列環(huán)境友好型輸電等級單斷口真空斷路器系列產(chǎn)品，其中126kV/2500A/40kA 單斷口真空斷路器技術(shù)指標(biāo)處于國際領(lǐng)先水平，部分產(chǎn)品出口并在俄羅斯得到廣泛應(yīng)用。相關(guān)產(chǎn)品和技術(shù)成功推廣應(yīng)用于國內(nèi)電力設(shè)備制造行業(yè)領(lǐng)軍企業(yè)中，對我國占領(lǐng)輸電等級真空電力開斷技術(shù)國際制高點(diǎn)、發(fā)展環(huán)境友好電力裝備、減少溫室效應(yīng)氣體的使用具有重要意義。

 

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真空涂層技術(shù)起步時間不長，國際上在上世紀(jì)六十年代才出現(xiàn)將 CVD（化學(xué)氣相沉積）技術(shù)應(yīng)用于硬質(zhì)合金刀具上。由于該技術(shù)需在高溫下進(jìn)行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀(jì)七十年代末，開始出現(xiàn) PVD（物理氣相沉積）技術(shù)，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術(shù)得到迅猛發(fā)展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內(nèi)成膜，幾乎無任何環(huán)境污染問題，有利于環(huán)保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復(fù)合涂層，應(yīng)用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實(shí)現(xiàn)了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術(shù)具有低溫、高能兩個特點(diǎn)，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應(yīng)用范圍十分廣闊，其發(fā)展神速也就不足為奇。真空涂層技術(shù)發(fā)展到了今天還出現(xiàn)了 PCVD（物理化學(xué)氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學(xué)氣相沉積）等新技術(shù)，各種涂層設(shè)備、各種涂層工藝層出不窮。

本技術(shù)的真空、反重力充型特點(diǎn)，能夠平穩(wěn)地將液態(tài)金屬充入到鑄型中，使毛坯中含有極少的氣體和氣孔；本技術(shù)的壓力下凝固補(bǔ)縮特點(diǎn),能夠?qū)ρa(bǔ)縮通道施加大的補(bǔ)縮壓力，減少或消除凝固收縮形成的縮松和縮孔缺陷。采用本技術(shù)生產(chǎn)的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,獲得高質(zhì)量、優(yōu)質(zhì)毛坯。 本技術(shù)直接對坩堝內(nèi)和真孔罩內(nèi)部的壓力進(jìn)行調(diào)壓，設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，密封性好，調(diào)壓空間小，增強(qiáng)了控制系統(tǒng)的快速性與及時性，降低能耗；爐體具備傾翻機(jī)構(gòu)，坩堝與調(diào)壓管路間采用軟管連接簡化機(jī)構(gòu)，便于傾倒剩余液體，操作簡單，降低成本。另外，本技術(shù)通過對成型過程中鑄型內(nèi)液態(tài)金屬液面位置和溫度的檢測，可根據(jù)所獲得的信號設(shè)置坩堝內(nèi)的壓力控制，實(shí)現(xiàn)真空調(diào)壓鑄造工藝的精確控制。 主要應(yīng)用范圍： 本技術(shù)適合于各種壁厚的鋁合金及其復(fù)合材料的毛坯生產(chǎn)。 技術(shù)經(jīng)濟(jì)分析： 本技術(shù)為鋁合金及其復(fù)合材料的液態(tài)反重力成型制造技術(shù)，該技術(shù)可以在真空條件下將液態(tài)金屬平穩(wěn)地充入到鑄型（金屬、石墨、樹脂砂、水玻璃砂等鑄型），在壓力下完成凝固，實(shí)現(xiàn)凝固補(bǔ)縮。該技術(shù)能夠達(dá)到的真空度低于－0.1MPa，可以實(shí)現(xiàn)的補(bǔ)縮壓力為0.2MPa。本技術(shù)采用計(jì)算機(jī)實(shí)現(xiàn)真空、充型過程和凝固補(bǔ)縮過程的精確控制。 目前，本技術(shù)已經(jīng)成功用于我國高速客車鋁基復(fù)合材料制動盤的制造生產(chǎn)，獲得了優(yōu)質(zhì)的制動盤質(zhì)量，取得了好的社會經(jīng)濟(jì)效益，正在進(jìn)一步推廣應(yīng)用到高強(qiáng)度鋁合金軸箱的成型制造過程。

真空鍍膜技術(shù)廣泛用于航空、航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)等各行各業(yè)，本單位長期從事鍍膜技術(shù)的研究和開發(fā)，先后研制出兩臺鍍膜機(jī)，達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先水平，同時開展真空技術(shù)及器件、蒸鋁技術(shù)、濾光片技術(shù)、各種保護(hù)膜的研究和開發(fā)，有多名長期從事相關(guān)技術(shù)研究的教授和專家，理論基礎(chǔ)扎實(shí)及實(shí)踐能力強(qiáng)。 

產(chǎn)品詳細(xì)介紹真空原位分析表征系統(tǒng)是為紅外光譜吸附態(tài)表征和催化劑酸性測定設(shè)計(jì)的專用真空系統(tǒng)，配有石英紅外吸收池，可以與Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要紅外光譜儀連接使用，進(jìn)行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化學(xué)吸附測定。具體應(yīng)用吸附態(tài)研究和催化劑的表征　　紅外光譜已經(jīng)廣泛應(yīng)用于催化劑表面性質(zhì)的研究，其中最有效和廣泛應(yīng)用的是研究吸附在催化劑表面的所謂“探針分子”的紅外光譜， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化劑表面存在的“活性中心”信息。用這種方法可以表征催化劑表面暴露的原子或離子, 更深入地揭示表面結(jié)構(gòu)的信息。與其它方法相比較, 這樣的紅外研究所獲得的信息只限于探針分子（或反應(yīng)物分子）可以接近或勢壘所允許的催化劑工作表面。? CO吸附態(tài)研究　　由于CO具有電子受授性質(zhì)，未充滿的空軌道很容易同過渡金屬相互作用。CO同許多重要的催化反應(yīng)有密切關(guān)系。如羰基合成、水煤氣合成、氧化等。并且具有很高的紅外消光系數(shù)。因此, 在過渡金屬表面吸附態(tài)的研究是一個十分廣泛的研究課題。? 雙金屬原子簇催化劑的研究（紅外光譜方法研究催化劑表面組成和相互作用）利用兩種氣體混合物吸附在雙組元過渡金屬催化劑上通過紅外光譜側(cè)其吸附在不同組元上吸收帶強(qiáng)度的方法可以測定雙金屬載體催化劑的表面組成。例如：CO和NO混合氣吸附在Pt-Ru/SiO2上的紅外光譜測定Pt-Ru/SiO2催化劑的表面組成。催化劑紅外酸性測定? 氧化物表面酸性的測定　　酸性中心一般看作是氧化物催化劑表面的活性中心。在催化裂化、異構(gòu)化、聚合等反應(yīng)中烴類分子和表面酸性中心相互作用形成正碳離子, 是反應(yīng)的中間化合物。正碳離子理論可以成功地解釋烴類在氧化物表面上的反應(yīng), 也對酸性中心的存在提供了強(qiáng)有力的證明。為了進(jìn)一步表征固體酸性催化劑的性質(zhì), 需要測定表面酸性中心的類型（L酸、B酸）、強(qiáng)度和酸量。利用紅外光譜研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等堿性吸附質(zhì), 其中應(yīng)用比較廣泛的是吡啶和氨利用紅外光譜研究固體酸。? 氧化物表面羥基的研究? 紅外光譜應(yīng)用于反應(yīng)于反應(yīng)動態(tài)學(xué)研究? 催化劑原位表征高真空系統(tǒng)解決的問題　　由于紅外光譜方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究載體催化劑, 由于大部分載體低于1000cm, 就不透明了,所以很難獲得這一范圍的許多重要信息。　　2) 金屬粒子不同的暴露表面邊、角、階梯、相間界面線等,分子吸附在所有這些中心上的光譜都可對測得的光譜有貢獻(xiàn), 因而解釋起來有困難。　　3) 由于催化反應(yīng)過程中, 在催化劑表面上反應(yīng)中間物濃度一般都很低,壽命很短（尤其是反應(yīng)活性的承擔(dān)者）, 紅外光譜的靈敏度和速度不夠高。　　4) 紅外光譜只適用于有紅外活性的物質(zhì)。　　隨著光譜技術(shù)的發(fā)展, 這些局限性將通過真空系統(tǒng)克服。系統(tǒng)基本情況　　一套用于催化劑原位表征的真空裝置及紅外原位測量系統(tǒng)，配備紅外吸收池統(tǒng)。 提高真空系統(tǒng)的性能使其在較短的時間內(nèi)達(dá)到測量需要的中高真空度。主要技術(shù)指標(biāo)　　1. 樣品處理開始后樣品池中真空度應(yīng)在30 分鐘內(nèi)達(dá)到10-5 Torr；　　2. 樣品測量過程中各樣品可同時或分別進(jìn)行吸附或脫附探針分子；　　3. 由于測量所需探針分子為酸性或堿性分子，高硼硅玻璃材質(zhì)避免了相互污染；　　4、真空處理系統(tǒng)由機(jī)械泵與玻璃四級擴(kuò)散泵串聯(lián)組合抽氣，達(dá)到客戶對測試池中高真空的要求，抽速快，體積小,低噪音，操作簡單，使用方便的特點(diǎn),并且價格適中。　　5、低真空部分主要是抽出系統(tǒng)中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體。　　6、各部分節(jié)門選用高硼硅玻璃節(jié)門，滿足系統(tǒng)高真空的要求，透明性操作，便于調(diào)試。　　7、真空測量儀使用數(shù)顯高精密真空計(jì)。　　8、本系統(tǒng)配備透過式石英紅外吸收池，采用透射模式，可對樣品進(jìn)行陪燒、流動氧化還原、抽空脫氣、吸附反應(yīng)等處理過程，可隨時移入或移出到紅外光譜儀的光路中進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，也可利用配備的延長管路進(jìn)行原位表征和實(shí)驗(yàn)。其加熱方式可采用程序升溫方法控制溫度的升降，也可使用調(diào)壓變壓器對溫度的升降進(jìn)行控制，使用溫度可以高達(dá)450度，標(biāo)準(zhǔn)配置的吸收池窗口為CaF2，工作區(qū)間為4000—1200波數(shù)之間，用戶也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 樣品測量過程中各樣品可同時或分別進(jìn)行預(yù)處理、吸附、脫附探針分子或更換樣品。　　10. 波紋管更換方便。　　11．為滿足客戶的要求真空系統(tǒng)可做相應(yīng)改變。配置單序號 設(shè)備名稱 數(shù)量高真空裝置 1.1 機(jī)械泵 1 1.2 玻璃油擴(kuò)散泵 1 1.3 真空計(jì) 1 1.4 壓力規(guī)表頭 1 1.5 吸附阱、冷卻室、管道、真空工作架、玻璃節(jié)門、電控標(biāo)準(zhǔn)連接件等 1測量系統(tǒng) 2.1 石英樣品池 1 2.2 溫控裝置 1 2.3 操作手冊 1