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研究了二維鐵磁材料VI 3

本發(fā)明公開了一種偏振無關(guān)空間光調(diào)制方法和裝置，該方法利 用偏振分束、偏振旋轉(zhuǎn)、偏振相關(guān)空間光調(diào)制器件、偏振合束實(shí)現(xiàn)偏 振無關(guān)空間光調(diào)制。裝置包括偏振分束鏡，反射鏡、半波片和反射式 偏振相關(guān)空間光調(diào)制器件，其中偏振分束鏡、偏振相關(guān)空間光調(diào)制器 件和反射鏡構(gòu)成直角三角形回路或者多邊形回路，半波片位于回路中。 裝置還可以進(jìn)行多種改進(jìn)。本發(fā)明可以適用于多種空間光束，如軌道 角動量光束、多路廣播的軌道角動量光束、任意空間相位調(diào)

本項(xiàng)目主要開展納微結(jié)構(gòu)體系光子帶隙的設(shè)計(jì)、納微結(jié)構(gòu)體系的光學(xué)非線性效應(yīng)、光波傳播動力學(xué)以及光控光操作應(yīng)用等方面的研究，發(fā)展在介觀尺度下調(diào)控光子傳輸行為的新效應(yīng)、新原理與新技術(shù)。已在Physical Review Letters、Optics Letters、Applied Physics Letters和Optics Express等國內(nèi)外重要學(xué)術(shù)刊物上發(fā)表論文30余篇。其中有關(guān)鐵鋯雙摻鈮酸鋰晶體的相關(guān)成果被《Science Archived》收錄，有關(guān)非傳統(tǒng)偏壓配置條件下各種非線性光子學(xué)晶格的制備

本實(shí)用新型公開了一種分布式光感卡盤安全扳手，包括從上至下依次固定相連的手柄、上扳手體和 下扳手體，所述手柄上設(shè)有至少一個光感傳感器，所述下扳手體底部設(shè)有方形軸，所述下扳手體內(nèi)部設(shè) 有電源、控制器和蜂鳴器，所述方形軸內(nèi)底部設(shè)有光感傳感器，所述手柄上和方形軸內(nèi)光感傳感器的信 號均接入控制器，通過控制器接收信號判斷卡盤安全扳手所處狀態(tài)，來控制蜂鳴器是否報警。本實(shí)用新 型原理簡單，使用、維護(hù)方便，可有效的

光掩膜版(又稱光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中實(shí)現(xiàn)設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移的載體，是決定其微細(xì)結(jié)構(gòu)和線寬精度的核心材料和工具。 目前中國半導(dǎo)體掩膜版的國產(chǎn)化率10%左右，90%需要進(jìn)口，高端掩膜版國產(chǎn)化率3%，miniLED和microLED產(chǎn)業(yè)升級也需要更多高端掩膜版。隨著中國市場需求的持續(xù)提升，掩膜版產(chǎn)能嚴(yán)重不足。并且中國半導(dǎo)體掩膜版的產(chǎn)業(yè)起步較晚，技術(shù)滯后，核心技術(shù)和裝備基本讓國外公司壟斷，特別是在設(shè)備、材料領(lǐng)域眾多技術(shù)處于“卡脖子”狀態(tài)，例如掩膜版制造的核心裝備光刻機(jī)、檢測機(jī)、測量機(jī)、修復(fù)機(jī)和貼膜機(jī)等都依賴進(jìn)口，嚴(yán)重制約中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。華中科技大學(xué)徐智謀教授團(tuán)隊(duì)致力于全套高端半導(dǎo)體光掩膜版的關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)與量產(chǎn)，為“卡脖子”技術(shù)研究而努力。 具有建立180 nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體掩膜版量產(chǎn)線相關(guān)核心技術(shù)；具備130 nm至28 nm半導(dǎo)體掩膜版研發(fā)、設(shè)計(jì)及驗(yàn)證能力。主要研究成果如下： 1） 工藝突破 團(tuán)隊(duì)掌握了掩膜版MEMS微納加工量產(chǎn)核心技術(shù)，如電子束光刻、激光光刻和納米壓印光刻等MEMS微納加工工藝的各類技術(shù)參數(shù)的搭配和優(yōu)化，以及大數(shù)據(jù)量軟件快速處理、補(bǔ)償?shù)取? 2） 裝備國產(chǎn)化 A. 超高精度二維測量裝備 尺寸測量是驗(yàn)證掩膜版技術(shù)指標(biāo)的核心，主要包括關(guān)鍵尺寸測量(CD)和長尺寸測量(TP)。團(tuán)隊(duì)已掌握掩膜版的關(guān)鍵測量技術(shù)，達(dá)到國內(nèi)先進(jìn)水平，具有整套設(shè)備的整機(jī)制造能力。 TP測量是掩膜版制作的核心指標(biāo)，直接影響到客戶的套合精度，該測量設(shè)備一直由國外極少數(shù)廠商壟斷，且價格昂貴，一般在1000萬美元以上，高端限制對中國出口。團(tuán)隊(duì)目前正在攻克該項(xiàng)技術(shù)，已取得階段性成果。 B. 缺陷修復(fù)裝備 掩膜版修補(bǔ)技術(shù)是提升良品率的關(guān)鍵手段，該技術(shù)一直為國外壟斷。團(tuán)隊(duì)已熟練掌握UV、DUV激光化學(xué)沉積技術(shù)及皮秒飛秒激光金屬處理技術(shù)，具備整機(jī)制造能力，可降低設(shè)備采購成本70%以上。 C. Pellicle自動貼膜裝備 隨著產(chǎn)品精度的提升和應(yīng)用領(lǐng)域的高端化，掩膜版貼膜是個不可缺少的重要環(huán)節(jié)。在IC制造領(lǐng)域100%掩膜版需貼Pellicle，在IC封裝領(lǐng)域90%以上需貼膜，在LED領(lǐng)域80%以上需貼膜。該貼膜設(shè)備一直國外公司壟斷，國內(nèi)廠家沒有提供，國外采購全自動貼膜設(shè)備需100萬美元左右。團(tuán)隊(duì)具備研發(fā)制造該設(shè)備的能力，貼膜精度±0.1mm,且有設(shè)備正式在產(chǎn)線運(yùn)營，制造成本可節(jié)約90%以上。 3） 廠房建設(shè)關(guān)鍵技術(shù) 團(tuán)隊(duì)對MEMS及其掩膜工廠工藝設(shè)備廠務(wù)設(shè)計(jì)有豐富經(jīng)驗(yàn)，掌握高等級防微震廠房結(jié)構(gòu)和設(shè)備平臺的設(shè)計(jì)施工，可達(dá)到VC-D級技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，滿足納米級生產(chǎn)技術(shù)要求。 【技術(shù)優(yōu)勢】 （1）掌握了高性價比掩膜版量產(chǎn)的關(guān)鍵核心技術(shù)，包括部分裝備的國產(chǎn)化，解決“卡脖子”技術(shù)難題，量產(chǎn)線建設(shè)成本節(jié)約30%以上； （2）具備28 nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)掩膜版設(shè)計(jì)開發(fā)能力和驗(yàn)證平臺，驗(yàn)證周期可縮短3倍； （3）擁有一支20多年以上掩膜版量產(chǎn)、研發(fā)和銷售經(jīng)驗(yàn)的隊(duì)伍，成熟的企業(yè)管理經(jīng)驗(yàn)，保證企業(yè)穩(wěn)步成長，確保投資風(fēng)險可控。 【合作方式】 股權(quán)投資合作共建或政府孵化+中試線。

本發(fā)明公開了一種混合集成電控液晶光開關(guān)陣列，包括：被混合集成的電控液晶聚光微透鏡陣列和電控液晶散光微透鏡陣列，每單元液晶聚光微透鏡與每單元液晶散光微透鏡的光軸重合；在加電態(tài)下，聚光微透鏡在不同均方幅度的電驅(qū)控信號作用下實(shí)施光束的可調(diào)焦聚光操作，散光微透鏡在不同均方幅度的電驅(qū)控信號作用下實(shí)施光束的可控發(fā)散程度散光操作；在斷電態(tài)下，液晶聚光微透鏡與散光微透鏡被轉(zhuǎn)換為僅延遲光波相位的液晶相移板；液晶聚光微透鏡與散光微透

本發(fā)明公開了一種光伏發(fā)電并網(wǎng)控制方法及系統(tǒng)。該方法一方 面利用光伏電池電壓，電流信息，根據(jù)電壓變化率，電流變化率以及 電導(dǎo)變化率將擾動法和增量電導(dǎo)法結(jié)合進(jìn)行最大功率點(diǎn)跟蹤(MPPT) 控制，在溫度以及光照輻射強(qiáng)度變化時，實(shí)現(xiàn)對最大功率點(diǎn)的及時跟 蹤，提高光伏電池的輸出效率；另一方面采用多重控制策略，將并網(wǎng) 點(diǎn)的頻率、功率以及電壓作為控制量，能在光伏電池并網(wǎng)以及電網(wǎng)運(yùn) 行狀態(tài)發(fā)生變化時進(jìn)行實(shí)時動態(tài)響應(yīng)，從而實(shí)現(xiàn)對光伏發(fā)電并網(wǎng)運(yùn)行 的控制。 

EVA膠膜封裝是太陽能光伏電池重要的組件之一，通過封裝可以保護(hù)電池片和電極、提高電池的發(fā)電效率和耐久性。本產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目通過改善封裝材料的透光率、粘接強(qiáng)度及耐老化等性能提高太陽能電池的發(fā)電效率和延長使用壽命，降低光伏發(fā)電成本，制備使用壽命可達(dá)30年、低成本高性能EVA膠膜。已實(shí)現(xiàn)工程化，可提供全套解決方案，包括配方、技術(shù)工藝、生產(chǎn)線設(shè)備定制等全套技術(shù)。建成示范生產(chǎn)線1條.