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成果簡介：成組夾具結構設計技術：基于產品零件族設計可重構、重用的通用成組夾具（多功能通用基礎件、可調/可換定位、夾緊元件等），其柔性可以服務于零件族中的全部零件，提高了夾具的利用率，降低成本、縮短夾具準備周期。 計算機輔助工裝設計：在復雜工裝模塊化結構設計的基礎上，建立工裝的功能模型、結構模型和分析計算模型，并以模塊裝配特征為基礎實現計算機輔助工裝設計。 計算機輔助工裝管理：建立基于網絡的工裝信息庫，實現對工裝庫存信息的統計分析、檢索查詢維護和使用情況管理；并可實現與

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智能快速設計技術是當市場在對產品多樣化、瞬變性等需求加強的形勢下提出并發展起來的。快速設計技術可以有效的解決產品的設計速度和“人才荒”問題。產品投放市場時間日益成為決定產品競爭力的重要因素。 智能快速設計技術從企業實際出發，根據企業的設計流程，將設計知識和設計專家的經驗沉淀于軟件中，快速設計系統實現了基于訂單型產品設計過程的優化計算、參數化設計、數據管理、工藝設計一體化，提高了產品設計質量，并使產品的開發設計速度提高 20 倍以上，在輸入設計參數后快速設計系統能輸出三維和二維 CAD

產品詳細介紹快速分離色譜柱：快速分離色譜柱是為了實現快速分析和高分離的高耐壓微粒子色譜柱。傳統的粒徑5μm的色譜柱在提高流速時柱效會下降，而快速分離色譜柱其粒徑為2μm，即使在5μm的色譜柱的2-3倍的流速下，理論塔板數也不下降，可實現快速分離。同時，在合適的線速度區域，使用壓力也沒有超出通用HPLC儀器的的使用壓力范圍，快速分離色譜柱具有與粒徑3-5μm的Inertsil系列色譜柱相同的性能，因此無需變更洗脫液條件就可縮短分析時間、提高靈敏度，并減少了溶劑消耗量。 --------------------------------------------------------------------------------色譜柱參數： 化學鍵合基團 Inertsil ODS-3 Inertsil C8-3 Inertsil Ph-3 含碳量 15% 9% 9.5% 端基封尾 有 有 有 基體 3系列高純度硅膠 粒徑 2μm 其他規格 微孔徑100?，耐壓50MPa --------------------------------------------------------------------------------訂貨信息： 2μm 填料名 長度/內徑(mm) 2.1 3.0 Inertsil ODS-3 30 5020-84650 5020-84660 Inertsil C8-3 5020-84930 5020-84935 Inertsil Ph-3 5020-85130 5020-85135 Inertsil ODS-3 50 5020-84652 5020-84662 Inertsil C8-3 5020-84931 5020-84936 Inertsil Ph-3 5020-85131 5020-85136 

產品詳細介紹HXZZ-I型紙張手印快速顯現儀價格：160,000.00/臺一、產品結構1. 紙張指紋加熱儀可以按設定時間、設定溫度對紙張進行強光輻照加熱。2. 觀察箱內安裝藍色和綠色兩種光源，光源輸出口都安裝帶通式干涉濾光片。觀察箱頂端安裝有長方形觀察孔，可以分別安放藍光觀察濾光眼鏡、綠光觀察濾光眼鏡。透過觀察濾光眼鏡可以觀察指紋熒光。3. 翻拍架上安裝照相機，可以透過觀察濾光眼鏡拍照指紋熒光。二、設備操作及工作原理1. 將承載汗液指紋的紙張放置在指紋加熱儀的載物臺上，開機進行加熱處理，加熱過程使指紋物質中的氨基酸變性，變成為熒光物質。2. 加熱處理后的紙張放入熒光觀察箱。3. 開啟藍色光源，將藍光觀察濾光眼鏡（干涉型）安放在觀察孔上，透過濾光眼鏡可以看到黃綠色指紋熒光。4. 如果藍色光源下，紙張背景產生顯著熒光，背景熒光會削弱指紋熒光的效果。遇到此種情況，應關閉藍色光源，開啟綠色光源。將綠光觀察濾光眼鏡（干涉型）安放在觀察孔上，透過濾光眼鏡可以看到黃綠色指紋熒光。綠色光源下，指紋的熒光強度會輕度下降，背景熒光會大幅下降，指紋反差會明顯提高。5. 將相機安裝在翻拍架上，透過濾光眼鏡拍照指紋的熒光圖像。三、產品優點1. 大量的比較實驗證明，對于紙張上的新鮮汗液指紋，此方法的顯現效率高于茚三酮，等同于DFO和茚二酮；對于紙張上的陳舊汗液指紋，此方法的顯現效率高于茚三酮、DFO和茚二酮。2. 經過該設備顯現后，可用茚三酮、DFO、茚二酮或物理顯影液進行再顯現。3. 無需復雜的化學處理，顯現過程快捷無損，30-60秒鐘可完成顯現過程，特別適合大量檢材的快速處理四、技術參數：1. 最大支持紙張尺寸：240 x 320 毫米2. 顯現設備工作電壓：220V / 50Hz3. 加熱源功率：500～1500W可調4. 加熱時間：20～300秒可調5. 藍光功率：50w6. 綠光功率：50w7. 加熱儀尺寸：長700，寬620，高410mm8. 觀察箱尺寸：長315，寬200，高185mm配置內容：1 紙張指紋加熱儀 1臺2 藍、綠雙光源熒光觀察箱 1個3 藍光觀察濾光眼鏡（干涉濾光片） 1付4 綠光觀察濾光眼鏡（干涉濾光片） 1付5 佳能EOS700D相機 1個6 騰龍90mm微距鏡頭 1個7 翻拍架 1個

產品詳細介紹功能特點： 1、設定爐溫以及修正硫含量可通過鍵盤輸入，無需打開機器。 2、自動判斷滴定起點，縮短了實驗時間。 3、自動調整爐流大小，和傳統控制器相比能延長硅碳管的使用壽命。 4、送樣機構采用電子開關，可靠性高，不會產生過電解現象。 5、自動控制電解速度，無需電解開關。 技術參數 1、測硫范圍：0-40% 2、升溫時間：≤25分鐘 3、分析時間：約3-5分鐘 4、分辨率：0.001% 5、電源:AC220V±10% 50

產品詳細介紹產品概述：    用PCB雕刻機對敷銅板進行雕刻，雕刻出所需的線路,是創新實驗的重要工具。 主要功能： 1.  平面檢測功能（可選）：先檢測出覆銅板平整度，軟件根據檢測結果自動調整進刀量。 2. 自動對刀功能（可選）：先檢測出覆銅板表面高度， 更換刀具后，儀器自動調整進刀深度。 3.．自動原點定位:可以從任意位置自動回到設定的零點。 4. 定位銷與不對稱定位技術：保證了定位的精確性與正確性。 5. 斷點續雕：從任意百分比開始雕刻，或雕刻到某一百分比結束。 6. 虛擬加工：根據設定的參數，虛擬顯示實際加工過程。 7. 實時顯示加工路徑： 加工前首先顯示所有加工路徑，在加工過程中實時顯示當前位置。 8. 任意區域選擇雕刻：選擇任意區域，進行雕刻。 9．組合雕刻/自動選擇刀具：選擇兩把雕刻刀，自動分配雕刻區域。在不影響雕刻精度的情況下選擇一把大雕刻刀，快速銑掉大塊的空白區域。 10．萬能鉆孔：使用固定銑刀挖出任意孔，減少了換鉆頭的次數。   參數： 加工面板        雙面板        加工面積        30CM×30CM        最小加工線徑    6mil        最小加工線距    6mil        分辨率          0.04mil(1um)        工作速度        3.6m/min        主軸轉速        0～60000r/min，無級可調        主軸功率        95W        直線導軌        進口直線導軌        傳動方式        進口滾珠絲桿        鉆孔孔徑        0.4～3.175        鉆孔速度        100(孔/min)        控制方式        ARM        通信方式        RS-232/USB        操作系統        Windons 98/2000/XP/Vista        最小內存配置    256MB        體積             630mm（L）×610mm（W）×505mm（H）        重量             70 kg        消耗功率        200 VA  

近日，北京大學物理學院馬仁敏研究員課題組實驗發現了拓撲能帶反轉光場限制效應，將拓撲態的利用由拓撲邊緣態擴展至拓撲體態，并基于此實現了一種高性能的拓撲體態激光器。這種新型激光器具有垂直出射、高方向性、小體積、低閾值、窄線寬、單橫模、單縱模和高邊模抑制比等優異特性。相關工作被《Nature Nanotechnology》雜志以標題 “A high-performance topological bulk laser based on band-inversion-induced reflection” 進行長文報道。 激光器的發明加深了人們對光與物質相互作用的認識，并對現代科學與技術的發展起到了巨大的推動作用。至激光器發明以來，激光微型化始終是一個重要的研究方向。半導體激光器因為易于電泵浦和規模生產與集成等優點，是激光微型化的首要選擇。經過幾十年的發展，半導體激光器的微型化已經取得了巨大的成就。尤其是具有垂直出射特性的垂直腔面發射激光器（VCSEL），目前已有數以百億計的該型激光器被廣泛應用于數據通訊、激光雷達、人臉識別、數據存儲與醫療手術等領域。圖1：拓撲體態激光器原理和示意圖。(a) 用于構造能帶反轉的拓撲態和拓撲平庸態光子晶體示意圖。(b) 實驗中發現能帶反轉可用來實現光場的反射和限制。(c) 垂直發射拓撲體態激光器示意圖。拓撲體態激光器出射方向垂直于光學腔反饋平面。 馬仁敏研究員與合作者提出并實現了一種新型垂直發射激光器—拓撲體態激光器。這種新型激光器直徑只有數微米，具有良好的垂直發射方向性, 窄線寬，單橫模、單縱模，能夠在室溫下以千瓦每平方厘米閾值穩定工作，單模輸出邊模抑制比超過36 dB。這些性能與商業化激光二極管相當，根據IEEE以及相關工業標準，指標滿足多數應用領域需求。 該類激光器的實現有賴于實驗中發現的一種新型光反射和限制機制：能帶反轉光場限制效應。圖1給出了能帶反轉光場限制效應和基于其實現拓撲體態激光器的原理和示意圖：實驗中首先通過對二維光子晶體進行變形操作，分別獲得了具有拓撲態和拓撲平庸態的能帶結構；相較于拓撲平庸態，拓撲態的光子晶體能帶結構中發生偶極子和四極子能帶間的能量反轉；實驗和理論計算發現頻率靠近能帶邊緣的光場雖然在拓撲態和拓撲平庸態中都可以自由傳播，但是在兩者的界面處會發生能帶反轉引起的光場發射；該能帶反轉引起的光場反射和限制效應僅發生在布里淵區中心附近，越靠近布里淵區中心，光場反射和限制越有效，使得利用該類型反射機制構建的拓撲體態激光器具有單橫模、單縱模、面內反饋、垂直出射等優異特性。圖2：拓撲體態激光器件與性能。(a-b) 拓撲體態激光器諧振腔（a）和拓撲界面處（b）的電鏡圖。（c）隨功率變化的光譜。（d）激射光譜。（e）激射實空間近場分布。（f）激射角分辨遠場分布。 能帶反轉光場反射和限制效應為激光物理提供了一種新穎的激光模式選擇和出射光場調控機制。基于該原理構建的新型拓撲激光器各項性能均達到了可商業化應用的水平（圖2）。新的光場反射和限制機制將拓撲態的利用由拓撲邊緣態擴展至拓撲體態，同時該原理可以拓展到電子學、聲學和聲子學等領域。 該工作發表于Nature Nanotechnology (DOI: 10.1038/s41565-019-0584-x)，馬仁敏研究員為論文通訊作者；北京大學博士后邵增凱、博士生陳華洲和王所為共同第一作者；其他作者包括北京大學博士生冒芯蕊、楊振乾、訪問學生王少雷，以及日本國立材料研究所教授胡曉，學生王星翔。這項工作得到國家自然科學基金委、科技部、北京市自然科學基金、人工微結構和介觀物理國家重點實驗室、量子物質科學協同創新中心等的支持。