新葡京娱乐场-大陆娱乐场开户注册

產品的詳細介紹，請直接咨詢我們。電話：13285746781

實驗室電源，物理實驗室電源，化學實驗室電源，實驗室學生電源 ? 備注：以上是J-C4教師數字控制的詳細信息，如果您對J-C4教師數字控制的價格、型號、圖片有什么疑問，請聯系我們獲取J-C4教師數字控制的最新信息。 咨詢電話：0577-67473999

JO415型直流安培計適用于中學、中專等學校實驗室，可測微弱電勢用。 Model JO415 DC microammeter is suitable for students to measure weak current and slimelectric potenial in laboratory of middle school and polytechnic school.

產品詳細介紹一、用途及特點    107JⅡ改型測量顯微鏡采用透、反射的方式對工件作二維長度和角度的精密測量，配備國產數顯箱后觀察更方便、可靠，最小讀數值為0.001毫米。特別適用于幾何形狀復雜的細小零件、錄象磁頭、大規模集成電路掩模圖形以及其它的精密零件的測定。儀器還可連接CCD電視攝像頭作工件的輪廓放大，亦可連接計算機進行數據處理等測量。該儀器兼有目視測量和投影測量，可由測微鼓讀數或光柵數顯讀數，是一種實用、多功能、高精度的小型精密測量儀器。廣泛適用于計量室、生產作業線及科學研究等部門。二、 規格1. 測量范圍:                                 2.讀數分格值:X-軸移動測量范圍           50毫米           測微鼓  0.005毫米；（選購件） Y-軸移動測量范圍           50毫米           光柵數顯  0.001毫米 園工作臺旋轉范圍           0—3600                 園工作臺刻度盤游標讀數示值   5′   3. 測量精度:                                4. 鏡筒調節范圍:測微鼓  5微米；                          測量臺面與物鏡之間最大距離  80毫米         光柵數顯  50毫米內5微米（μm）；         粗動調節范圍：0-80毫米任意25毫米內3微米（μm）               微動調節范圍：0-1.5毫米5.光學系統 : ①投影系統物          鏡 投 影 物 鏡 投影總放大倍數 工作距離(毫米) 視場直徑(毫米) 投影屏(毫米)放大倍數 焦距(毫米) 放大倍數 焦距(毫米) 2.5x/0.07 36.34           10x            32.42 25x 15.7 5.6 Φ140選購件4x/0.1 28.8 40x 13 3.2 10x/0.25 15.4 100x 11.6 1.4           ②目視系統物         鏡 目        鏡 顯微鏡總放大倍數 工作距離(毫米) 視場直徑(毫米) 40倍物鏡放大倍數 焦距(毫米) 放大倍數 焦距(毫米) 2.5x/0.07 36.34               10x             25.00 25x 15.7 7.2 選購件4x/0.1 28.8 40x 13 3.2 10x/0.25 15.4 100x 11.6 1.8 6、照明系統:①透射照明: 12V/10W      ②斜照明:  12V/10W    ③電源: AC220±22V    50/60Hz三、 儀器成套性：（標配）1、 主機/1套    2、10倍目鏡（含“米”字線）/1只   3、2.5倍、4倍、10倍平場消色差物鏡/各1只  4、手輪/2只   5、數顯箱/1個  6、玻璃工作臺板/1塊  7、彈性工件夾/4組    8、電源線/2根上海光學儀器進出口有限公司地 址 ：上海市楊浦區武東路32號2幢401室 郵編 ：200433電話：021-35030526   手機：13916201020   傳真：021-65563863  售價：40000元   款到發貨    聯系人：卜生高E-mail:[email protected]     http://www.soiec.cpooo.com

產品詳細介紹J2472雙通道20MHz示波器 ,高靈敏度1mV/DIV ,Z軸調制輸入功能　,CH1信號輸出功能　 ,掃描擴展X10功能,TV 同步、X-Y方式，帶峰峰自動功能　,電子掃描編碼開關實行360度通轉，永無打滑、損壞現象　,ALT觸發功能、可同時測量二路不相關信號 ,設有觸發輸出端，觸發通道實行公共通道輸出供外接頻率計 ,具有觸發電平鎖定，自動同步功能，靈活的觸發方式供內、外選擇 ,具有Z軸輸入，實行高電平消隱。 顯示：雙蹤顯示、內刻度矩形示波管 頻寬：DC-20MHz-3dB 偏轉因數：1mV/div-5V/div 上升時間 ≤17.5ns 掃描時間：0.2μs/div~0.5s/div ±5%擴展可達20ns/div±5% 垂直工作方式：CH1,CH2,交替、疊加 觸發源：內(CH1,CH2,交替)、外接、電源 觸法方式：自動、常態、TV－H，TV-V 電平鎖定 觸發靈敏度：內觸發不小于1div，外觸發不小于0.5V 外形尺寸：310WX150HX450L(mm) 質量：8Kg 專業生產，品質保證，品牌領先，歡迎洽談合作！ 聯系電話：0511-85124039  手機：18796076266  工作qq:846421225  聯系人：徐先生

該連接器采用新型高可靠絞線柔性插針，高密度的接觸對排列，接觸件尾端分為壓接導線、直插印制板、彎插印制板三種形式。塑料外殼,產品符合GJB2446A，廣泛應用于各類軍用電子設備的電路連接，特別適用于安裝空間小，要求重量輕的場合。

厚板焊接作為我國核電、船舶、石化等領域重大裝備的關鍵制造技術，對低熱輸入、高效率、高質量的新型焊接方法升級需求極其迫切。窄間隙焊接技術因采用窄且深的坡口，在厚板焊接時具有效率高、填充量少、熱輸入小、變形小等優勢，在提高焊接效率和焊接質量等方面具有重要應用前景。目前，該類技術在國外核電、船舶等行業廣泛應用，技術較為成熟。而我國窄間隙焊接技術研究起步較晚，在大厚板核心焊接設備、工藝及材料均受制于人，尤其針對我國國防重點企業，存在“卡脖子”風險。高端焊接裝備依賴于進口，價格高昂。國外主要生產廠家包括法國寶利蘇迪、日本日立公司、美國電弧機器等，國內生產廠家華恒、唐山開元等依賴于國外企業的專利授權。 國際和國內現有技術一般采用鎢極擺動、陶瓷片約束、橫向交變磁場等控制電弧周期性地在兩側壁之間燃燒，存在裝置復雜、母材被磁化或間隙較大等缺點。為解決窄間隙焊接側壁熔合的難題，課題組另辟蹊徑，創新性地提出了一種具有完全自主知識產權的“厚板超窄間隙旋轉電弧焊接技術及成套裝備”新技術。該技術突破了現有窄間隙鎢極氬弧焊接（NG-GTAW，narrow-gap gas tungsten arc welding）工藝的局限性，已實現壁厚50 mm超窄間隙焊接，能夠更為可靠、簡便地解決側壁未熔合缺陷問題。相對于國內外的現有技術，該技術形成的旋轉電弧能夠有效改善電弧熱量及壓力的均勻性，在保證熔敷金屬質量均勻的同時避免熔深過大，具備高質量、高效率的突出優勢，達到國際先進水平，已在國防、核電、QT等工業領域推廣應用。同時，研究團隊自主設計研發了面向核電、石化、船舶等裝備的大厚板非軸對稱旋轉鎢極超窄間隙GTAW成套裝備（圖1），可實現板厚超過150 mm、窄間隙5 mm——9 mm的厚壁材料高質量自動化焊接。 圖1 大厚板非軸對稱旋轉鎢極超窄間隙GTAW成套裝備 該設備特別適用于厚壁不銹鋼焊接、鈦合金、980高強鋼、9Ni鋼等特種材料，在核電、軍工、石化等領域具有廣泛的應用前景。目前處于國際先進水平的寶利蘇迪公司生產的單套設備售價高達380萬元，國產設備售價也達到150——200萬元水平。而自主設計研發的設備單套成本僅約30萬元，能夠產生巨大的經濟效益。

首先，一種大頭基的表面活性劑(DEAB)可以與反電荷的多頭配體(TPE-BPA)得到一種納米尺寸的無規配位簇，而后金屬離子(Zn2+)的加入則可迅速使之交聯形成無定形的白色沉淀物。通過自發的結塊過程，沉淀中的分子可進一步發生重排運動，并使其由白色粉末狀的固體在短時間內轉變形成透明且可自支撐的薄膜材料。

設計兩個硅納米棒作為超構表面的基本相干像素結構單元，從而實現光場透射的有效調控。通過獨立控制兩個納米棒的轉角，可以實現單層結構對振幅和相位的獨立調控，從而能夠在單層納米結構上實現任意全息與平面圖像的集成。更進一步，針對于彩色平面圖像，可以通過硅納米棒的尺寸（即單根納米棒的長和寬）以及納米棒之間的轉角差的控制，實現對顏色HSB三參數的按需調控，從而將超構表面結構色的調控能力從二維的色度-飽和度平面，真正拓展到三維的色度-飽和度-強度空間? 以上研究成果將豐富和拓展超構表面在圖像器件方面的應用，比如實現有陰影信息的彩色圖像打印，開發新型全彩平面與彩色全息圖像的集成顯示技術，研制基于平面和全息圖像集成的納米隱寫信息安全技術等。同時，該工作中體現的相干像素設計理念也將對復雜光場調控問題提供新的解決思路和方案

超疏水表面具有如自潔，疏水防污等特性，使其在眾多領域都有巨大的應用前景。透明性的引入擴展了其在擋風玻璃，玻璃幕墻等領域的應用面。目前，透明超疏水涂層普遍存在易磨損，制作工藝復雜，缺少大規模制備的操作性，成本昂貴等缺點。本涂層利用長鏈硅烷修飾兩種100nm粒徑以下二氧化硅溶膠直接涂覆于由膠黏劑處理過的基材表面并稍加摩擦獲得耐磨透明超疏水涂層。此涂層相較于氣相沉積，模版法，刻蝕等技術制作方法簡單，步驟與用時較少，并能大面積制備，重復涂覆。同時，制備價格較低，原料低毒環保，產品實用性強。