維意真空多靶高真空磁控濺射鍍膜機(jī)支持定制
MS-450高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)
真空腔室:直徑450?H400mm,1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì),氬弧焊接,前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu);
真空系統(tǒng):機(jī)械泵+分子泵(進(jìn)口和國(guó)產(chǎn)可選);
極限真空:優(yōu)于5?10-5Pa(經(jīng)烘烤除氣后);
真空抽速:大氣~8?10-4Pa≤30min;
升降基片臺(tái):2~6英寸基片臺(tái),靶基距60~120mm連續(xù)在線自動(dòng)可調(diào),旋轉(zhuǎn)0~20r/min可調(diào),可加熱至500℃(可選水冷功能),可選配偏壓清洗功能;
磁控靶:直徑3英寸2~4只(可升級(jí)成直徑4英寸靶2~3只),兼容直流和射頻,可以濺射磁性材料的靶材;
濺射電源:直流脈沖濺射電源、全自動(dòng)匹配的射頻濺射電源可任選;
質(zhì)量流量計(jì):2~3路工藝氣體,可根據(jù)工藝要求增加;
膜厚監(jiān)控儀:可選配國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口單水冷探頭膜厚儀;
控制方式:PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),具備漏氣自檢與提示、通訊故障,實(shí)現(xiàn)一鍵抽停真空。
北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
2025-04-25