采用光互連技術可以有效的解決集成電路進一步發展的尺寸限制同時可以極大的提高芯片間信息傳輸的速度和頻率。Si基光子集成是實現集成電路光互聯的核心技術和重要研究方向。然而,Si因為其間接帶系的特性很難作為發光材料使得Si基光源的缺失成為制約Si基光子芯片的瓶頸,而傳統Ⅲ-Ⅴ族材料如GaAs,InP等由于優良的光電轉換效率已經在光電子器件領域得到廣泛的應用。因此,Si基與Ⅲ-Ⅴ的集成是實現Si基光子芯片的一種理想途徑。
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