本發明公開了一種納米級尺寸結構測量方法及裝置,可以同時測量納米級尺寸結構寬度、深度、側墻角等參數。本發明方法步驟如下:將白光光束經濾光、起偏后垂直投射到包含納米級尺寸結構的樣件表面;采集樣件表面反射信號,計算得到納米級尺寸結構顯微成像圖;將測量離焦掃描成像分布圖與理論離焦掃描成像分布圖進行匹配,提取得到待測納米級尺寸結構的幾何參數值。本發明所提供的納米級尺寸結構測量裝置,能為納米制造技術如傳統光刻和納米壓印等基于圖形轉移的批量化制造技術中所涉及的各種典型納米級尺寸結構,如孤立線條陣列結構、密集型線條
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