本發明公開了一種用于浸沒式光刻的浸液溫控系統,通過其獲得具有穩定溫度的浸液,以用于浸沒式光刻工藝中,其特征在于,該溫控系統包括:用于浸液流動的浸液管路,待溫控的浸液通過管路進口進入該浸液管路,溫控后的浸液通過該浸液管路出口輸出;用于對所述浸液進行冷卻的工藝冷卻液回路,工藝冷卻液在該回路中循環流動;以及熱交換器(6),所述浸液管路和工藝冷卻液回路同時流經該熱交換(6),利用該熱交換器(6)完成工藝冷卻液和浸液的熱交換,獲得具有穩定溫度的浸液,實現對浸液的溫度控制。本發明的裝置采用內部回流結構與熱交換器
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