本發明公開了一種超疏水凹角 T 狀微柱結構的制備方法,包括:(a)在基片的一個表面旋凃光刻膠,并執行顯影操作得到第一圓孔陣列;(b)在基片含光刻膠表面依次沉積粘附層和種子層;(c)在種子層表面旋凃光刻膠,并執行顯影操作得到第二圓孔陣列;(d)同時對第一圓孔陣列和第二圓孔陣列進行電鍍填充,得到金屬的 T 狀微柱結構;(e)去除光刻膠及多余粘附層和種子層;(f)在 T 狀微柱表面沉積一層保護層;(g)去除微柱 T 狀結構的橫狀伸出部分并保留柱狀結構和保護層,得到一種凹角 T 狀微柱結構。按照本發明的制造
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