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基于 SiCx 織構的硅量子點浮柵非易失性存儲器及其制備方法

2021-04-14 00:00:00
云上高博會 http://www.g2h0uzv.xyz
關鍵詞: 存儲器
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所屬領域:
高端裝備制造
項目成果/簡介:

本發明公開了一種基于 SiCx 織構的硅量子點浮柵非易失性半導

體存儲器及其制備方法,包括硅襯底,在硅襯底上摻雜形成的源導電

區和漏導電區,以及在源漏之間的載流子溝道上依次生長的隧穿氧化

層、電荷存儲層、控制柵氧化層及金屬柵層;所述電荷存儲層包括 SiCx

織構和橫縱向均勻分布于 SiCx 織構中的硅量子點。本發明有效利用硅

量子點-SiCx 織構間的隧穿勢壘,構成了控制柵氧化層-SiCx 織構-Si

量子點-SiC

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