針對極紫外光刻機物鏡的溫管和溫控技術難題,設計和開發了針對極紫外光刻機的具有自主知識產權的超精密溫控裝置,目前已應用在半導體制造業及光刻機生產廠商、高檔數控行業和民用航天上,涉及企事業單位共30余家。研制了不同控溫精度和控溫功率的系列產品,采用主動溫度控制方法,解決了單點溫度控制穩定性和多通道溫度控制均勻性的問題;設計了具有功能模塊化的溫控層次結構,解決了超精密溫控中系統內外的擾動和時滯問題,控溫速度快;研制了大功率串聯半導體制冷模塊,結合模糊PID控制算法,提高了收斂速度、控制精度和抗擾動能力。項
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