本實(shí)用新型公開了一種用于任意位置多點(diǎn)光聚焦及光斑優(yōu)化的系統(tǒng)。擴(kuò)束模塊布置在激光器出射端的前方,激光器發(fā)射出光束經(jīng)擴(kuò)束模塊平行擴(kuò)束后入射到空間光調(diào)制器,空間光調(diào)制器出射端的前方依次置有聚焦透鏡,聚焦透鏡前方設(shè)有散射介質(zhì),散射介質(zhì)位于聚焦透鏡的焦平面上;激光器發(fā)射出光束依次經(jīng)第一光束準(zhǔn)直擴(kuò)束模塊透鏡Ⅰ、第一光束準(zhǔn)直擴(kuò)束模塊透鏡Ⅱ平行擴(kuò)束后入射到空間光調(diào)制器,空間光調(diào)制器反射光經(jīng)聚焦透鏡聚焦到散射介質(zhì)內(nèi)部的焦平面上。本實(shí)用新型突破了現(xiàn)有光遺傳學(xué)光刺激與顯微成像方案只能對單一區(qū)域進(jìn)行刺激的局限,使得在大腦內(nèi)部更大深度下同時(shí)進(jìn)行多區(qū)域光刺激和顯微成像。
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