提供一種絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)及其制備方法,該IGBT包括N型基區(qū)、P型基區(qū)(28)、背P+陽(yáng)極區(qū)(21)、N+陰極區(qū)(26)、柵氧化層(24)、陽(yáng)極(20)、柵電極(25)和陰極(27),所述的N型基區(qū)由依次層疊的N+擴(kuò)散殘留層(29)、N-基區(qū)(23)和N+緩沖層(22)組成,所述的N+擴(kuò)散殘留層(29)和N+緩沖層(22)從與N-基區(qū)(23)的邊界起始向外摻雜濃度逐漸增加。IGBT在N-基區(qū)(23)正面設(shè)置N+擴(kuò)散殘留層(29),提高了N型正面的離子摻雜濃度,降低了結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管(JEFT)電阻的影響,從而有效降低IGBT的導(dǎo)通壓降,同時(shí)對(duì)IGBT的正向阻斷電壓(耐壓)的影響降低到最小。
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