小試階段/n本項目研究的碳化硅外延技術有其特殊性,不同于一般的半導體外延技術, SiC 外延生長技術在生長溫度、生長速率、缺陷和均勻性控制的具體指標要求以及實現 途徑上都突出了電力系統應用的特點。目前,國際上已經形成了從碳化硅襯底材料、 外延材料到器件制備的一整套產業體系。高質量 SiC 外延材料是 SiC 功率器件的基 礎材料,目前的國內外電力電子器件需要的碳化硅外延材料的發展趨勢都是向大直 徑、低缺陷、高度均勻性等方向發展。 目前,幾乎所有的碳化硅器件都是在碳化硅外延層上制備的。高質量的碳化硅
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