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反應離子刻蝕機
反應離子刻蝕機 招標項目的潛在投標人應在無接觸報名 獲取招標文件，并于2022年08月09日 10點30分（北京時間）前遞交投標文件。
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序號/ No. |
貨物名稱 |
Name of the goods |
數量/Quantity |
簡要技術規格 /Main Technical Data |
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1 |
反應離子刻蝕機 |
Reactive ion etching machine |
1 |
★1極限真空度：£3×10-4 Pa（12小時內）。2、 對于SiO2的刻蝕速率：≥30 nm/min。★3、RIE模式刻蝕的片內均勻性：8英寸范圍≤±5%（去邊7mm）。★4、 RIE模式片間均勻性：≤±3%。★5、 RIE模式刻蝕選擇比：光刻膠>3:1，硅>8:1。6、 RIE模式刻蝕側壁傾角：>85o。 |
1.滿足《中華人民共和國政府采購法》第二十二條規定；
2.落實政府采購政策需滿足的資格要求：
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3.本項目的特定資格要求：（1）投標人應為符合《中華人民共和國招標投標法》規定的獨立法人或其他組織；（2）投標人是專業生產本次所需設備的制造商，或由制造商指定一個代理商作為本次投標的唯一授權代理；（3）投標人提供的投標機型應是原產地的全新產品。（4）投標人須在投標截止期之前在國家商務部指定的為機電產品國際招標投標活動提供公共服務和行政監督的網上平臺（以下簡稱招標網，網址為：http://www.chinabidding.com）上完成有效注冊； （5）本項目不接受任何形式的分包和轉包。
1、報名如有疑問可發送郵件至[email protected];
2、投標人在投標前應在必聯網（https://www.ebnew.com）或機電產品招標投標電子交易平臺(https://www.chinabidding.com）完成注冊及信息核驗。評標結果將在必聯網和中國國際招標網公示。本公告在中國政府采購網（http://www.ccgp.gov.cn/）上同步發布。
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