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MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

EV-246小型電阻蒸發鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

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真空涂層技術起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現將 CVD（化學氣相沉積）技術應用于硬質合金刀具上。由于該技術需在高溫下進行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀七十年代末，開始出現 PVD（物理氣相沉積）技術，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術得到迅猛發展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內成膜，幾乎無任何環境污染問題，有利于環保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發展神速也就不足為奇。真空涂層技術發展到了今天還出現了 PCVD（物理化學氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學氣相沉積）等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。

本技術的真空、反重力充型特點，能夠平穩地將液態金屬充入到鑄型中，使毛坯中含有極少的氣體和氣孔；本技術的壓力下凝固補縮特點,能夠對補縮通道施加大的補縮壓力，減少或消除凝固收縮形成的縮松和縮孔缺陷。采用本技術生產的毛坯中材料的孔隙率可以小于0.05%,獲得高質量、優質毛坯。 本技術直接對坩堝內和真孔罩內部的壓力進行調壓，設備結構簡單，密封性好，調壓空間小，增強了控制系統的快速性與及時性，降低能耗；爐體具備傾翻機構，坩堝與調壓管路間采用軟管連接簡化機構，便于傾倒剩余液體，操作簡單，降低成本。另外，本技術通過對成型過程中鑄型內液態金屬液面位置和溫度的檢測，可根據所獲得的信號設置坩堝內的壓力控制，實現真空調壓鑄造工藝的精確控制。 主要應用范圍： 本技術適合于各種壁厚的鋁合金及其復合材料的毛坯生產。 技術經濟分析： 本技術為鋁合金及其復合材料的液態反重力成型制造技術，該技術可以在真空條件下將液態金屬平穩地充入到鑄型（金屬、石墨、樹脂砂、水玻璃砂等鑄型），在壓力下完成凝固，實現凝固補縮。該技術能夠達到的真空度低于－0.1MPa，可以實現的補縮壓力為0.2MPa。本技術采用計算機實現真空、充型過程和凝固補縮過程的精確控制。 目前，本技術已經成功用于我國高速客車鋁基復合材料制動盤的制造生產，獲得了優質的制動盤質量，取得了好的社會經濟效益，正在進一步推廣應用到高強度鋁合金軸箱的成型制造過程。

真空鍍膜技術廣泛用于航空、航天、工業、農業等各行各業，本單位長期從事鍍膜技術的研究和開發，先后研制出兩臺鍍膜機，達到國內領先水平，同時開展真空技術及器件、蒸鋁技術、濾光片技術、各種保護膜的研究和開發，有多名長期從事相關技術研究的教授和專家，理論基礎扎實及實踐能力強。 

產品詳細介紹真空原位分析表征系統是為紅外光譜吸附態表征和催化劑酸性測定設計的專用真空系統，配有石英紅外吸收池，可以與Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要紅外光譜儀連接使用，進行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化學吸附測定。具體應用吸附態研究和催化劑的表征　　紅外光譜已經廣泛應用于催化劑表面性質的研究，其中最有效和廣泛應用的是研究吸附在催化劑表面的所謂“探針分子”的紅外光譜， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化劑表面存在的“活性中心”信息。用這種方法可以表征催化劑表面暴露的原子或離子, 更深入地揭示表面結構的信息。與其它方法相比較, 這樣的紅外研究所獲得的信息只限于探針分子（或反應物分子）可以接近或勢壘所允許的催化劑工作表面。? CO吸附態研究　　由于CO具有電子受授性質，未充滿的空軌道很容易同過渡金屬相互作用。CO同許多重要的催化反應有密切關系。如羰基合成、水煤氣合成、氧化等。并且具有很高的紅外消光系數。因此, 在過渡金屬表面吸附態的研究是一個十分廣泛的研究課題。? 雙金屬原子簇催化劑的研究（紅外光譜方法研究催化劑表面組成和相互作用）利用兩種氣體混合物吸附在雙組元過渡金屬催化劑上通過紅外光譜側其吸附在不同組元上吸收帶強度的方法可以測定雙金屬載體催化劑的表面組成。例如：CO和NO混合氣吸附在Pt-Ru/SiO2上的紅外光譜測定Pt-Ru/SiO2催化劑的表面組成。催化劑紅外酸性測定? 氧化物表面酸性的測定　　酸性中心一般看作是氧化物催化劑表面的活性中心。在催化裂化、異構化、聚合等反應中烴類分子和表面酸性中心相互作用形成正碳離子, 是反應的中間化合物。正碳離子理論可以成功地解釋烴類在氧化物表面上的反應, 也對酸性中心的存在提供了強有力的證明。為了進一步表征固體酸性催化劑的性質, 需要測定表面酸性中心的類型（L酸、B酸）、強度和酸量。利用紅外光譜研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等堿性吸附質, 其中應用比較廣泛的是吡啶和氨利用紅外光譜研究固體酸。? 氧化物表面羥基的研究? 紅外光譜應用于反應于反應動態學研究? 催化劑原位表征高真空系統解決的問題　　由于紅外光譜方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究載體催化劑, 由于大部分載體低于1000cm, 就不透明了,所以很難獲得這一范圍的許多重要信息。　　2) 金屬粒子不同的暴露表面邊、角、階梯、相間界面線等,分子吸附在所有這些中心上的光譜都可對測得的光譜有貢獻, 因而解釋起來有困難。　　3) 由于催化反應過程中, 在催化劑表面上反應中間物濃度一般都很低,壽命很短（尤其是反應活性的承擔者）, 紅外光譜的靈敏度和速度不夠高。　　4) 紅外光譜只適用于有紅外活性的物質。　　隨著光譜技術的發展, 這些局限性將通過真空系統克服。系統基本情況　　一套用于催化劑原位表征的真空裝置及紅外原位測量系統，配備紅外吸收池統。 提高真空系統的性能使其在較短的時間內達到測量需要的中高真空度。主要技術指標　　1. 樣品處理開始后樣品池中真空度應在30 分鐘內達到10-5 Torr；　　2. 樣品測量過程中各樣品可同時或分別進行吸附或脫附探針分子；　　3. 由于測量所需探針分子為酸性或堿性分子，高硼硅玻璃材質避免了相互污染；　　4、真空處理系統由機械泵與玻璃四級擴散泵串聯組合抽氣，達到客戶對測試池中高真空的要求，抽速快，體積小,低噪音，操作簡單，使用方便的特點,并且價格適中。　　5、低真空部分主要是抽出系統中的高濃度氣體或吸附的殘余氣體。　　6、各部分節門選用高硼硅玻璃節門，滿足系統高真空的要求，透明性操作，便于調試。　　7、真空測量儀使用數顯高精密真空計。　　8、本系統配備透過式石英紅外吸收池，采用透射模式，可對樣品進行陪燒、流動氧化還原、抽空脫氣、吸附反應等處理過程，可隨時移入或移出到紅外光譜儀的光路中進行實驗，也可利用配備的延長管路進行原位表征和實驗。其加熱方式可采用程序升溫方法控制溫度的升降，也可使用調壓變壓器對溫度的升降進行控制，使用溫度可以高達450度，標準配置的吸收池窗口為CaF2，工作區間為4000—1200波數之間，用戶也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 樣品測量過程中各樣品可同時或分別進行預處理、吸附、脫附探針分子或更換樣品。　　10. 波紋管更換方便。　　11．為滿足客戶的要求真空系統可做相應改變。配置單序號 設備名稱 數量高真空裝置 1.1 機械泵 1 1.2 玻璃油擴散泵 1 1.3 真空計 1 1.4 壓力規表頭 1 1.5 吸附阱、冷卻室、管道、真空工作架、玻璃節門、電控標準連接件等 1測量系統 2.1 石英樣品池 1 2.2 溫控裝置 1 2.3 操作手冊 1