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大口徑光學元件微納缺陷檢測技術及產業化應用
2025-05-19 14:26:01
云上高博會
http://www.g2h0uzv.xyz
所屬領域:
項目成果/簡介:
該成果建立了基于有限時域差分的環形均勻照明暗場散射微納尺度缺陷顯微成像模型，提出了融合寬場散射成像、熒光顯微成像及激光掃描共聚焦成像的多模態成像方法，實現了光學元件微納表面及亞表面缺陷的高精度成像檢測。提出了一種重疊區缺陷信息量的區域生長拼接方法，建立了基于化歸思想的自適應“子區域子孔徑”掃描模型，攻克了超大口徑光學元件微納缺陷高精度檢測中米級超大行程與亞微米級超高精度難以兼顧的技術難題，建立了儲存-檢測-重構微納缺陷信息處理范式，實現了海量數據壓縮、高準確率高效率缺陷識別處理。
成果授權發明專利46項，美國發明專利2項，實用新型專利36項，發表國內外高水平學術論文55篇。已在浙江大華技術股份有限公司等單位應用。
知識產權類型:
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