一種實驗加熱裝置

其它領域

本實用新型公開了一種實驗加熱裝置，包括底座、水冷座、加熱片、第一屏蔽層、第二屏蔽層和上蓋；水冷座設置在底座上，上蓋設置在水冷座上；水冷座上端面設置有加熱片安裝槽，加熱片安裝在加熱片安裝槽上，加熱片通過線路與外部電源相連；第一屏蔽層設置在上蓋下端面，加熱片與第一屏蔽層間留有容置空間；第一屏蔽層中間與上蓋中間設有觀察孔；水冷座內設置有循環水管路，水冷座側壁上設置有循環水進口和循環水出口；底座與所述水冷座之間設有第二屏蔽層。通過水冷結構對裝置降溫，通過屏蔽層減小裝置對周圍環境的熱輻射，通過底座加快裝置與外部結構的熱傳遞，防止熱量聚集，從而有效減小加熱過程中熱量傳遞對掃描電鏡正常工作的影響。

試用